二手 ULVAC IPZ-9001 #293675960 待售
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ID: 293675960
晶圆大小: 6"
优质的: 1995
Ion implanter, 6"
Monitor controller
(2) Helium compressors
Oscilloscope
Scan chamber
Endstation
Platen
(2) Red box chambers
Red box
Flow meter rack
Main controller, PD
Power rack
Rotary pump1
PMB001CM Rotary pump, D‑750DK Drive
(3) Door panels
Set of floor panel
Pallet 1:
(4) Lamp bulbs
(4) Lamp upper covers
(6) Ion gauges
(3) Ion gauge covers
Isolation tube
Divider
Acceleration tube
ADIXEN Pascal Rotary vane pump, frame
Pallet 2:
Oil trance
Manometer assembly
Pallet 3:
High‑voltage Stack
(2) Earth bars
Pallet 4:
Foot base plate
Docking bracket
(4) Covers
Pallet 5:
UL180P5G1222 High‑voltage power supply, base assembly
Exhaust duct assembly
Box
1995 vintage.
ULVAC IPZ-9001是为先进的半导体制造应用而设计的最先进的离子植入器和显示器。该仪器是掺杂具有精确杂质量的半导体材料的关键工具,从而能够创建高性能的集成电路。IPZ-9001的核心是其离子植入设备,它利用一个复杂的过程将掺杂离子引入半导体基板的表面。这一过程涉及产生一束高能带正电荷的离子,将其加速到高速,然后将其植入目标材料中。离子穿透基板表面,改变其电性能,产生所需的掺杂轮廓。ULVAC IPZ-9001的主要特点之一是其先进的光束线设计,确保了对离子束参数的精确控制。该系统配备了一套静电和磁性透镜,可以精确聚焦和操纵离子束。这种控制水平对于实现尖端半导体器件所需的确切掺杂浓度和分布曲线至关重要。IPZ-9001的另一个重要方面是它的高能离子源,它能够产生能量从几keV到数百keV不等的离子。这种广泛的离子能量允许在掺杂各种类型的半导体材料和结构时具有灵活性。此外,该装置具有多用途的离子种类选择能力,能够使用不同的掺杂元素来量身定制半导体器件的电性能。在监控方面,ULVAC IPZ-9001配备了一整套诊断和反馈机制。该机具有先进的光束电流和能量监测传感器,可提供离子束参数的实时数据。这些信息对于确保离子植入过程的稳定性和一致性以及检测任何偏离所需掺杂规范的情况至关重要。此外,IPZ-9001还集成了先进的自动化和软件控制功能,以实现高效的操作和过程优化。该工具配有直观的用户界面和软件工具,使用户能够轻松编程和执行复杂的离子植入配方。此外,还可以将资产集成到更大的半导体制造系列中,从而提供无缝的数据交换和控制连接。总体而言,ULVAC IPZ-9001代表了半导体制造中离子注入的前沿解决方桉。其先进的束线设计、高能离子源、监控能力和自动化功能使其成为实现下一代半导体器件所需的精确掺杂轮廓的不可或缺的工具。凭借其高性能和多功能性,IPZ-9001正准备推动创新和推动先进半导体技术的发展。
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