二手 VARIAN 160XP #9182285 待售
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ID: 9182285
晶圆大小: 4"
High current implanter, 4"
Can be converted to 6"
Maximum beam current: 10 Ma
Implant angle: 7°
RLS Wafer exchange system
(4) Gases:
Phosphine
Arsine
Boron & argon.
VARIAN 160XP是一种先进的离子植入器和监测器,专门设计用于将一系列不同的离子物种沉积在固体材料中。这使得该设备非常适合半导体加工、微电子研究和光刻等应用。VARIAN 160 XP具有多才多艺和先进的特点,是需要精确和精确离子注入的应用的绝佳选择。使用精确可靠的光束形成光学器件,160XP可以沉积能量范围大、能量扩散量最小的离子物质。这意味着用户可以轻松调整设备的光束聚焦机制,以确保物种被植入所需的确切能量范围。此外,160 XP是一种高效的植入器,可以在脉冲或连续模式下运行。通过允许用户以脉冲模式操作设备,植入器能够减少总光束时间,从而有效降低剂量率,降低总光束能耗。这有助于节省时间和精力。VARIAN 160 XP的光束监测系统还确保其在剂量和光束稳定性方面的准确性。它由六轴光束角监视器和宽范围光束轮廓监视器组成。前者测量横向运动和标称梁位置的角度变化,后者检查梁轮廓特征。植入器还包括先进的安全功能,以防止可能发生的任何与梁有关的事故。这些特性包括光束互锁、光束强度监测器和剂量率监测器。这些监视器可防止用户意外接触过压的光束或磁场,从而确保其安全。总体而言,VARIAN 160 XP是一种先进的离子植入器和监测器,可用于一系列离子物种的精确植入。以其准确高效的运行,是微电子研究和半导体加工的理想工具。此外,它的安全特性使得它成为用户可靠可靠的选择。
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