二手 VARIAN 160XP #9198478 待售
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ID: 9198478
晶圆大小: 6"
优质的: 1995
Implanter, 6"
Maximum beam energy: 160kV
Energy range: 10kV–160kV
B+: 5mA
BF2+: 7mA
As+: 10mA
P+: 10mA
Sb+: 5mA
(2) Chambers implant process
Source
Beam-line
End station 1 & 2
Dual faraday system: Flood gun
EFG Charge control system
Modules:
Mechanical module
HEPA Filter flow hood
Remote console
Gas box
End station module
Electrical console
High voltage power supply
Dopant source
Argon (High pressure)
Ion source type:
Solid source: Antimony
(3) Gas sources:
Boron HP
Arsine HP
Phosphine HP
Pumps:
VARIAN Diffusion pump
EDWARDS IQDP80
EDWARDS IQDP40
(4) CT8 Cryopumps
CDA Pressure 100 PSI
N2 Pressure 20 PSI
(4) Toxic needle valve controlled gas systems
Power supply: 208 VAC, 60 kVA
1995 vintage.
VARIAN 160XP是一个最先进的离子植入和监测系统。它非常适合复杂的半导体应用，有助于优化各种半导体材料的质量。机器的工作原理是发送正离子流，通常通过系统内的固定加速器进行控制。然后将这些离子以低能量注入基质中，通常是硅或的。结果是基材内掺杂量受控。利用VARIAN 160 XP可以实现高水平的掺杂控制，因为每个植入物都可以调节加速电压和束电流。这在植入过程中提供了更大的控制和精度。为了最大限度地提高离子植入效率，160XP被设计成包括集成的过程诊断和监测。它具有专有的光束监视器,可提供有关过程准确性和性能的连续反馈。这使得用户可以在他们的实验仍在进行的时候，轻松调整和重新调整离子植入束参数，而不必重复。除了这些功能外，160 XP还有许多有用的工具和软件包来优化流程。其中包括剂量率优化以确保最佳植入率，光束参数的自动化编程以最大化吞吐量，以及用于数据收集的高级软件工具。该系统还包括自动聚焦功能，使用户能够精确测量和调整离子束的焦点。总体而言，VARIAN 160XP是一种最先进的离子植入器和监视器。它具有最高的效率和准确性,并具有高级软件和控制功能。对于任何使用半导体材料且需要受控掺杂的实验室来说，这是一个理想和可靠的选择。
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