二手 VARIAN 300XP #9232841 待售
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ID: 9232841
Implanter, 3"-6"
Beam energy: 10-200keV (Extendable to 400keV with doubly charged ions)
Throughput:
250 Wafer per hour
With 10-second implant
Wafer breakage <1: 20000
Wafer cooling:
ΔT <100°C at 2.0 w/cm² (Air)
ΔT <100°C at 3.0 w/cm² (Helium)
Particulate count:
<0.15 Particles / cm² for particle size >0.5µ
<0.05 Particles / cm² for particle size >1.0µ
Wafer handling:
Cassette to cassette serial processing
Dual end stations
Full 100 wafer load
Vertical wafer handling
Cassette and slot integrity
Azimuthal wafer orientation
Implant angle 0° or 7° fixed.
VARIAN 300XP是一种高性能的离子植入器和显示器,旨在在广泛的范围、能量和电荷状态下输送和监测剂量的高能离子。这个系统包括一个100厘米长,直径2厘米的用于生产植入物种类的离子枪,一条控制离子束能量的阶梯状光束线,以及一个用于剂量和光束状态测量的集成监测室和检测器。该枪具有可选的高功率射频(RF)加热选项以增加枪的能量,以及多轴准直仪以产生广泛的可用电流分布。阶梯式光束线使用永磁光学带电调来控制植入光束从满能量到几百伏,并有一组磁性和静电孔径来产生从宏观到亚毫米的广泛光束大小。集成监视器室在通过时使用静电光学器件聚焦植入物束,并结合二次电子发射、法拉第杯和气体电离室来监测束电流、剂量率和总剂量。该腔室是模块化的,可用于各种不同尺寸的基材和晶圆上。该腔室设计为提供高电流密度而不牺牲分辨率,单片尺寸可达200毫米。监视器室包括一个先进的软件包,以帮助控制植入过程,与手动调整束参数以匹配所需的结果选项,以及远程控制系统和电子束写入。该系统还包括一套全面的安全功能,带有硬件和软件联锁,以确保随时安全运行。VARIAN 300 XP是生产高质量离子植入物的可靠有力的工具,其集成的监控室和软件包使其成为高精度剂量控制和过程监控的理想选择。模块化设计既适合大型植入物,又适合高精度的研究应用,而其安全特性和综合软件包则增加了安心和操作方便。
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