二手 VARIAN 300XP #9390703 待售
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ID: 9390703
晶圆大小: 6"
优质的: 2004
Implanter, 6"
Dual end stations
Implant angle: 0°-7°
Source type: Freeman ion source
BROOKHAVEN X and Y Scan master amplifiers
Beam energy probe: 0-200 kV
Remote beam monitor on control console
Extraction: 0-35 kV
Standard 300XP grounded platen
Corner cup integration
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 Source rough pump, 3 Phase
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 / 2008 B/L Rough pump, Single phase
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 / 2008 E/S Rough pump ,Single phase
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 / 2008 Load lock pump, Single phase
VARIAN VHS 4 Diffusion source Hi-Vac pump
VARIAN B/L Hi-Vac pump with CTI-8 Cryo pump
VARIAN E/S Hi-Vac pump with CTI-8 Cryo pump
CTI Compressors
Acceleration / Deceleration power supply kit: -2 kV
AMU: 0-124
Process control terminal: 486 with remote control console
XP scan controller dosimetry system
SDS control system
(4) Gas systems:
(3) MFCs
HP for boron
Fiber optic control interface:
High voltage terminal
Ground level controls
2004 vintage.
VARIAN 300XP是一种设计用于半导体行业的高性能离子植入器和显示器。这种装置能够以精确的速度将离子植入各种各样的目标中。VARIAN 300 XP是一款紧凑多用途的机器，可以借助专有的源代码配置和操作软件提供各种详细的流程应用。该装置采用三磁体设计和六轴运动设备进行精确的离子注入。其技术允许控制低至0.1毫米的加速光束宽度，并允许小至0.03毫米的精确光束点大小。此外，光束电流范围从0.01-50}A延伸。它具有高灵敏度连续光束电流监视器,动态范围为1-500 pm。这种装置设计成在广泛的工艺范围内工作，温度范围变化为20-400°C。300XP具有双模离子源,可用于选择所需的光束能量和加速度,并控制光束角度。离子源可以调整为抗氧化模式或最大溶解模式。该装置具有自动加载系统，能够准确检测被植入基板的性能，并对操作和光束准直进行适当调整。300 XP也可以测量多种剂量和能量。该装置有一个先进的控制单元，能够精确控制光束宽度和光束电流。其数据采集机可以借助升级的脉冲源同时测量剂量和能量。该工具还可以生成各种实时图表和报告，用于分析流程产量和输出。VARIAN 300XP是一种高效可靠的资产，可以为半导体行业提供多种植入解决方桉。它高效、精确的设计使得它成为各种需要精确度和精确度的应用的完美选择。其多功能性、工艺范围和灵活性使其适合半导体行业的各种工艺。
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