二手 VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta 80 #9217499 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

ID: 9217499
Ion implanter No SMIFs or dry pumps Implant dose performance: Dose range: 2E12 - 1E16, (4E12 – 1E16 ions/cm2 - quad mode) Uniformity: ≥10 keV, 1 sigma ≤1.0% mean dose across wafer 500 eV to 10 keV, 1 sigma ≤1.5% mean dose across wafer Repeatability: ≥10 keV, 1 sigma ≤0.7% mean dose of wafers 500 eV to 10 keV, 1 sigma ≤1% mean dose of wafers Beam parallelism ±1º in X and Y axis for ≥10 keV drift Ion mass resolution: M/DeltaM > 60 FWHM Process angles: Tilt: ±45º; 2 axis; Programable in 1º steps; accuracy ±0.5º Orientation: 0 - 360º; programable in 1º steps; accuracy ± 1º Rotation: Equivalent multi-tilt, quad mode Wafer cooling: Gas cooled electrostatic platen 200mm < 100ºC @ 800 W beam power 300mm < 100ºC @ 1200 W beam power Particulate control: Frontside: ≤0.15 particles added/cm2@ ≥0.16μm particles Max throughput (wph): 200mm, 300mm Min 2 scans (4 passes): ≥250, ≥230 Wafer handling: Backside pick and place wafer orientation Load locks: (2) Independent cassette load locks FOUP/cassette buffer compatible – 4 SEMI E15.1-0298 load ports AGV compatible SMIF compatible Wafer breakage: MWBB 1:100,000 Metals contamination: Al < 50ppm of implanted dose Transition and heavy metals (Fe, Cr, Ni, Cu) < 5ppm of implant dose 1999 vintage.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta 80是一种离子植入器和监控器,旨在精确控制离子在半导体材料中的引入和去除。这种先进的设备为用户提供了一种可靠和高度精确的工具,可以用来用各种材料制造高性能的半导体器件。AMAT VIISta 80离子植入器和监视器具有强大的设计和内置互锁系统,能够快速、安全地运行。该设备还具有一个专有的电子束窗口选项,允许用户快速达到最佳植入深度为他们的应用。VARIAN VIISta 80利用了许多先进的功能来确保在植入离子时的最大精度和精确度。它采用精密的算法设计,能够适应性调整离子植入率、离子束对准和工艺参数。此外,它还拥有一个先进的晶圆对准装置,不断监测其准确性和精确度。为监测目的,VIISta 80使用实时光束分析,为用户提供关于其材料中离子浓度水平的最准确读数。这台功能强大的机器还包括一个增强的光束查看器,用户可以更准确地分析其材料的离子浓度。应用材料VIISta 80配备了一系列保护和安全措施,以尽量减少受到危险程度的辐射和电击。除此之外,该设备的设计完全符合行业标准的安全标准。总体而言,VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta 80是一款先进的离子植入器和显示器,旨在为用户在从半导体材料中注入或去除离子时提供最佳性能和可靠性。这款健壮的工具提供了一系列的精确控制功能、防护安全措施和光束监视器,以确保最高质量的结果和安全的工作环境。
还没有评论