二手 VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta HC #293646025 待售

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ID: 293646025
Ion implanter Process chamber COMP II ESC Roplat tilter assembly UES2 Process end station Dual load locks: 25 Wafer capacity Polished integrated loadlock Self aligning atmospheric door 4-Wafer walk out sensors in pass through cassette Through-beam wafer mapping sensor BROOKS AUTOMATION DBM- 2076V2 Buffer robot with track movement ESC Controller: P/N: E19283790 MFC / Pressure unit: Argon, BF3, AsH3, PH3 Drive mechanism: E11320430 Orientor Assembly VAC-407 IN VAC Arms Foups/Load ports: 4-FOUP Complies Module: Gas module 1: Argon Gas module 2: BF3 Gas module 3: AsH3 Gas module 4: PH3 Exhaust / Pump system: BOC EDWARDS STP-A Source turbo pump BOC EDWARDS STP-A Beam line turbo pump EBARA A10S Source rough pump EBARA A10S End station rough pump BROOKS OBIS320FE Cryo pump TC750 Load-Lock Turbo pump Power supply: 3 Phase, 208 VAC.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta HC是一种离子植入器和监控器,旨在为半导体器件制造提供出色的工艺控制和高生产率。设备的高级功能位于单个腔室内,并由用户友好界面控制。系统的离子植入器部分由一个大的、圆柱形的高能加速器组成,具有可调的开口角度,可以设置到不同值的范围内,以调整离子的角扩散。这允许各种植入选择性选择,如大角度和广域植入物。该单元还具有高精度、10轴馈线,可以以微米级精度定位,允许精确控制离子束的位置、大小和形状。该机的监控部分采用多检测器设置,可以测量植入器束电流和能量、通量密度、大角度散射和角度扩展等一系列参数。这允许对植入过程进行连续质量控制,并将设备故障的风险降至最低。该工具还配备了紧急停止和屏蔽保护等几个安全功能,以防止在操作资产时受到高能辐射,最大限度地降低受伤风险。它还包含一个复杂的光学和电气诊断模型,以监测离子束的性能并确保最佳性能。此外,AMAT VIISta HC旨在方便地集成到现有生产线中,并提供与外围部件(如等离子体或蚀刻系统)连接的选项。这提供了极大的灵活性,保证了整个生产线的可靠运行。总体而言,VARIAN VIISta HC是一款功能强大、可靠的植入器和显示器,能够在半导体器件制造中提供出色的工艺控制和高产。
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