二手 VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta HC #293651987 待售
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ID: 293651987
晶圆大小: 8"-12"
优质的: 2005
Ion implanter, 8"-12"
Process chamber
Pumps not included
Source head: Advance 54mm
ESC (Platen): COMP II
Roplat tilter assembly
UES2 Process endstation
Load locks:
Dual, 25 Wafer capacity
Polished integrated loadlock
Self aligning atmospheric door
4-Wafer walk out sensors in pass through cassette
Through-beam wafer mapping sensor
BROOKS DBM- 2076V2 Buffer robot with track movement
ESC Controller:
P/N: E19283790
MFC / Pressure unit: Argon, BF3, AsH3, PH3
Drive mechanism:
E11320430 Orientor assembly
VAC-407 IN VAC Arms
Foups/Load ports: 4-FOUP Complies
Module:
Gas module 1: Argon
Gas module 2: BF3
Gas module 3: AsH3
Gas module 4: PH3
Power supply: 3 Phase, 208 VAC
2005 vintage.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta HC是一种高电流离子植入器和监控器，为提供高生产率和卓越的工艺控制和可靠性而开发。它结合了多种技术，实现了包括高压电源、大电流射束设备以及先进的监控系统在内的卓越性能。大电流电源可提供高达3 μ A至45 keV的大动态范围,适用于直径不超过200 mm的薄而厚的基板。注射器的设计保证了准确的颗粒通量和电流传递，促进了一致和可重复的植入物。它还提供所有关键参数的数字闭环控制，如能量、电流、光束传播和扫描速度。先进的监控机器旨在最大限度地提高样品质量，最大限度地减少人工干预。它具有用于过程监控的多个传感器、用于接口植入控制器的可编程逻辑控制器以及用于用户定义参数的交互式控制界面。此外，该工具的实施提供了高度准确的植入时间和改进的整体过程控制。AMAT VIISta HC Ion Implanter and Monitor旨在满足最苛刻的统一性、吞吐量和容量要求。它旨在提高吞吐量和提高生产水平,并满足最严格的规范。此外,还针对不同的生产要求设计了易于维护和工艺优化的方桉.此外，它还提供数字信号处理和数据显示，以确保精确分析的最佳植入结果。
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