二手 VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta PLAD T2 #9203300 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 9203300
晶圆大小: 12"
优质的: 2007
High dose implanter, 12"
Single wafer plasma doping system
(2) VIISta PLAD process modules
Plasma implant voltage range: 200V to 10kV
Using precision pulsed DC supply
Programmable ramped wafer bias for optimum dopant profile control
High density plasma generation
Control system
Real-time magnetically suppressed Faraday closed loop dose control system
Electrostatic wafer platens
With He backside gas cooling
Automated pressure control system
Base system includes
Power distribution: 50/60 Hz
VIISta single-wafer end station & tool control
Dual wafer capacity: 25
Polished load locks
Independent vacuum control
High voltage power supply drivers
Uninterruptible power supply
Transport module vacuum chamber
Dual vacuum robots
Horizontal motion control
Backside pick-and-place wafer handling
Orientation & centering station
Automatic pumping system:
(2) PFEIFFER 1201 Turbo-molecular pumps
One per process module
(2) PFEIFFER 261
Turbo-molecular pumps
Remote rack assembly:
Plasma power supply drivers
Deionized water recirculation system
Power distribution panel to support all controllers & sub-systems
Remote cabling ten meters
Rack space for mechanical dry pumps
VCS Runs on the Microsoft Windows NT / Windows 2000
Multitasking operating system
Process gas control module
Standard 4 channel gas module including three toxic
One inert gas
5 Channels per process module
System I/O: VARIAN control system
SEMI S2-0200 & S8-0701 compliant
VIISta factory automation
S-series buffer with 4 load ports
Direct-drive atmospheric robot & thru-beam mapping capability
Facilities from bottom
Factory automation kit brooks S-series EFEM
With vision loadports
Operation: 60 Hz
Gas box: 5 Channels per chamber
Process gas input from the bottom: 5 Channels
Left process chamber for CH4 left process chamber for CH4
Right process chamber for AsH3/PH3
Configure system for right chamber to run AsH3 and PH3 process
Label kit
POC UHP Roof
Standard remote module
T2 15m remote harness
Hose kit T2 15m remote harness
T2 15m remote hose kit
2007 vintage.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta PLAD T2是由世界领先的半导体设备供应商之一设计制造的最先进的离子植入器和监控设备。它具有独特的集成式真空植入系统，能够产生均匀高效的离子植入剂量。AMAT VIISta PLAD T2具有一个完全自动化的软件单元,可以为几乎任何应用程序实现精确的植入配置文件。该机器提供具有广泛测量功能的集成光束轮廓监视器,使客户能够密切监视植入过程,确保安全性、设备产量和过程优化。VARIAN VIISta PLAD T2提供了一个完全可定制的平台，以满足各种植入过程的需求。它可以支持与其他AMAT系统的集成，如扫描监控工具的扫描、离子膜厚度监视器和温度控制器。应用材料VIISta PLAD T2具有高分辨率的360°成像工具。这一资产允许实现最高水平的植入配置文件，同时确保精确和可重复的结果。VIISta PLAD T2还包括一个带有集成电源模型的高级控制机柜,可提供无与伦比的稳定性、准确性和可靠性。VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta PLAD T2监视器具有改进的过程控制和实时报警功能,并与其他系统集成以提高自动化程度。此外,该设备还采用了获得专利的紧凑型植入物源技术,该技术旨在改善植入物的几何形状、减少漂移和提高工艺一致性。该系统还为用户提供了广泛的监测、匹配和分析能力，用于测量光束形状和波动，以确认设备在任何时候的最佳运行。综上所述，VIISta PLAD T2是来自VARIAN的最先进的离子植入器和监视器。它提供了一个完全可定制的平台,具有集成的波束轮廓监控、过程控制和报警功能、高分辨率成像和集成电源。此外，它还采用了紧凑型植入物源技术，旨在改善植入物的几何形状，减少漂移，提高工艺的均匀性。所有这些功能结合在一起，创造了一个最先进的工具，能够提供精确和可重复的植入结果有效和高效。
还没有评论