二手 VARIAN DF4 #9161508 待售

VARIAN DF4是一种离子植入器和监控器,用于保护精确的离子植入.它是一种高功率植入器，旨在提高半导体制造业植入过程的可靠性和一致性。设备使用高压射频发生器、加速器和束线组件，使高电流达到150mA，重离子的能量达到32 keV。这些元件创建了一个自平衡光束传播系统,以确保动态光束的精度,从而获得最大的精度和可重复性。该单元支持硫、氮、硼、磷和砷等离子，可同时使用1MHz和500kHz的DC&RF偏置。射频发生器允许选择各种植入条件来优化离子植入过程。此外，射频发生器能够在植入过程中采用射频偏置开关，主动调节射频偏置电压，优化植入条件。DF4的高吞吐量能力也使其成为许多半导体生产过程的经济高效的解决方桉。该机器可在目标区域实现高达40微米/分钟的高剂量植入率，并可在各种压力和气体类型的范围内运行。这允许在各种半导体生产过程中使用。VARIAN DF4包括坚固、高质量的工艺,可提高其实用性和耐用性。它采用人体工程学设计，由多个安装点和可调节的脚组成，以确保设备在各种基板上的安全使用。该光束线支持最大光束电流为18 nA,由坚固的真空质量材料制成,可最大程度地延长设备寿命。该工具包括一种先进的监测资产，能够持续监测和创建植入过程报告，以便对任何生产环境进行精确控制。监测模型包括一个真空控制设备，用于监测压力、温度和气体流量等所有真空参数。这为操作员提供实时反馈，以确保植入过程的准确性。监控系统还可以报告离子源轮廓、束线和目标配置参数。总体而言，DF4是一个用途广泛、可靠的离子植入器和监控完美的精密离子植入过程在半导体生产领域。它是先进的监测和射频发生器单元，为精确控制和精确重复的植入过程提供实时反馈。它坚固耐用的结构和可调节的脚部使设备非常适合任何生产环境,而且它的高吞吐量能力为离子植入需求提供了经济高效的解决方桉。