二手 VARIAN DF4 #9181748 待售

VARIAN DF4是一种用于半导体制造和纳米技术的离子植入器和监控器。它在植入过程中提供高水平的准确性和控制。该装置适用于广泛的低能离子植入应用，包括超浅结形、离子位移损伤和晶界工程。设备包括一个包含集成数字信号处理（DSP）卡的大型机机箱和几个外部元件,如离子源、准直器和加速器。大型机还在真空室内容纳了几个温度稳定的离子源，包括用于较重离子注入的较高能量源。使用专有算法,DF4可以精确控制离子束电流、剂量和能量参数。VARIAN DF4具有几个关键特性,在离子植入时具有很高的精度和控制能力.该系统设计为在多种不同模式下运行，电压范围可变，使其能够在一系列不同的材料和条件下高效运行。这个可变电压范围还有助于最大限度地减少离子植入过程中的污染和交叉电荷积累。DF4还使用先进的诊断和监测，包括一系列全面的传感器和探测器，提供有关设备状态和性能以及过程的实时数据。这些传感器和探针有助于确保在任何时候的准确性和控制，以最大限度地提高植入过程的效率。此外,该机器还具有内置图形用户界面（GUI）和专家工具,用于快速可靠的诊断和故障诊断。GUI和Expert Asset还允许自定义整个植入过程。此外,该模型还包含多个安全协议,以确保植入过程安全。总体而言，VARIAN DF4是一种高度先进和精密的设备，在离子植入方面提供精确和控制。其广泛的特点，从可变电压范围到全面的诊断和监测，确保其在尽可能广泛的材料和条件下有效运作。