二手 VARIAN E1000 #158386 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

ID: 158386
Implanter chamber control rack Includes: Varian Plasma Flood and Bias Supply E11020501 Varian 112729001 Varian 113136001 (has been disassembled) MKS Baratron 122AA-00010DB Brooks 5850E Mass Flow Controller 9408HC034101 High Yield Technology S/N# 9412S75 Qty.4, Vat Gate Valve (10 inch inside diameter) DOES NOT Include: Kollmorgen DC Brushless Amplifier BDS3-230/55-28-220 Kollmorgen Power Supply PSR3-230/50-07-003 Qty.3, Infranor Resolver SMTBS Mavilor Motors SE0718-07057.
VARIAN E1000是一种离子植入器和监控器,能够为要求最苛刻的半导体研究和制造作业实现精确的离子植入型材。VARIAN E-1000的设计目的是将离子植入高电场和高流度水平下,以便将其掺入各种材料中。该植入器具有光束能量分布的高重现性、流线型和能级的监测灵敏度。该设备可以量身定制,以植入介于氢到铀的正电荷或负电荷的离子种类,而植入物能量和束电流范围允许获得各种植入物能量和剂量。通过高效的光束光学,E 1000系统可以在大于12英寸设计极限的基板上产生具有高重复性的严格定义种类和能量的光束。光束电流可在很宽的范围内调节,并在植入过程中保持稳定水平。VARIAN E 1000具有光束分析和成像单元,用于植入物种的表征。这台机器包含一个用于测量离子电流的石英晶体微平衡以及一个操作模式显示加速间隙前后光束电流的法拉第杯。植入剖面由创新的双收集器检测器(DCD)现场监测。DCD可以测量能量范围高达40KeV的离子和电子高达1MeV的离子。这种最先进的工具不仅可以调整植入剖面,还可以监测过程中的最佳参数和条件。E-1000采用自监控反馈控制系统,保证植入剂量的最高精度和精确度。反馈控制资产采用法拉第笼作为光束形成和传感模型的一部分,在降低剂量率和能量扩散变化的同时提高分辨率和精度。这样可以确保在植入过程中持续保持所需的剂量速率和能量扩散。E1000设备的组成部分包括光束源、粒子加速器、光束光学系统、双集电极探测器、离子束电流分析仪和光束形成单元。该机还包括一个自动窗口界面,以便于操作。该工具消除了在植入过程中增加操作员的开销,进一步降低了拥有成本。VARIAN E1000是一个多方面的资产,用于高精度、高效和可重现的离子植入,服务于广泛的应用。这种模式的先进和创新特点使半导体行业的研究人员和制造商甚至可以开发出最复杂的项目用于商业应用。VARIAN E-1000设计灵活,精度高,精度高,是现代植入要求的理想解决方桉。
还没有评论