二手 VARIAN E1000 #181223 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 181223
晶圆大小: 6"
优质的: 1991
Implanter, 6"
Gas Box: 4X(3.4L x $)
Turbo Pump: Ion source, beamline
Gas Bottle #1: Ar - High Pressure
Gas Bottle # 2: BF3 - High Pressure
Gas Bottle # 3: PH3 - High Pressure
Gas Bottle # 4: AsH3 - High Pressure
Auto set up: Yes
Scan: Disc scan chamber
Wafer handling: Bell jar, 6"
Wafer clamp: DISC, 18 wafers
Ion Source: Dula filament
Accel tube: Yes
HV Power Supply: Accel 1 and 2
Loadlock elevator: 3 sets
Monitor: Operation and service
+/- 7° with electrostatic bias ring, manual disc implant angle
Manual disk implant angle
Plasma flood gun and power supply: 1) Arc P/S: 40VDC, 10A Max, 2) Filament P/S: 8VDC, 75A Max
CSR upgrade:
1) Does/spin/flip control PCB
2) Spin/scan/flip amplifier
Ar beam implant available
Installed in clean room
1991 vintage.
VARIAN E1000是半导体工业中常用的离子植入器和监控器。VARIAN E-1000是为满足半导体制造过程的严格要求而设计的，在掺杂剂植入和离子束溷合控制方面效率很高。E 1000采用了光束源、磁性和静电光学、光束剖面仪等方面的最新创新，使设备为掺杂剂植入等操作提供了高度的精度和精确度。E-1000利用独特的光束分散系统,为柔性离子束溷合创建可变离子分数,从而改进过程控制。此外,E1000的大光束腔室允许快速扫描、高通量以及低成本维护。VARIAN E 1000优化的光束目标工作流能够提供高质量的掺杂配置文件并提高产率。高级光束位置监视器、复杂的光束电流监视器和实时扫描选项进一步提供了可靠和一致的掺杂轮廓。此外，VARIAN E1000使用多个植入室同时进行离子植入和横切，通过最小化探针时间和停机时间优化过程。该装置采用专利专有的真空扫描机，提高了压力稳定性，最大限度地提高了光束的均匀性和性能。此外,VARIAN E-1000还配备了数字扫描工具,为较低的光束电流提供了先进的偏置和控制功能,并提高了辐照度均匀性。除了其众多功能外，E 1000还具有复杂的软件控制功能，包括全面的可视化资产、全面的用户界面和全面的数据分析包。这些软件组件为用户提供了监控植入过程每个阶段所需的过程控制和分析功能。总而言之,E-1000拥有一系列先进的功能和软件功能,为掺杂剂植入提供无与伦比的精确度和精确度,以及无与伦比的工艺控制和产量优化。
还没有评论