二手 VARIAN E1000 #9054294 待售

VARIAN E1000是一种用于高通量、高剂量离子精确注入半导体晶片的离子植入器和监测器。该植入器可用于有效地涂抹晶片，使晶片上的离子格，硅，磷和其他离子，从而改变晶片上的电特性。其高分辨率光束监测设备允许精确控制离子剂量和分布，以达到最佳电气效果。VARIAN E-1000从装入离子源的源室开始。有三个独立的可用源,它们可以一起扫描整个晶圆表面。三个源分别是单束离子源、狭缝束离子源和多束离子源。单光束源用于大表面积上的均匀植入，而狭缝和多光束源则用于小区域的图样植入或植入。加速器模块然后将离子束传递到电离室中。该腔室是专门为限制离子束和确保高精度的植入而设计的。它配备了几个特性，如光束准直器和光束扫描，以及一个离子等效监视器来记录已被植入的离子的确切数量。一旦离子被植入，晶片被移动到无定形沉积室。该腔室允许非导电层沉积在晶片表面，改善了芯片的电气特性。最后，E 1000有一个晶圆检测室，用于检查植入的芯片。该腔室配有激光表面检查系统，用于验证掺杂芯片的电气特性，以及光学显微镜，用于查看芯片上特征的精细细节。总体而言，E1000是一个极其强大、准确、可靠的植入和监测装置，能够精确控制高剂量离子注入半导体晶片。其各种特性和腔室为掺杂半导体制造提供了高通量、精确的机器。