二手 VARIAN E1000 #9214217 待售

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ID: 9214217
优质的: 1994
High current implanter Chamber cryo pump: CT-250F Source dry pump: QDP80 Beam-line turbo pump: LEYBOLD L/L Rough pump: QDP80 + QMB250 L/L Turbo pump: VARIAN 300HT Station: Bell jar Scrubber: VECTOR TECHNOLOGIES Process gas: BF3, PH3, ASH3 Power: 380 VAC, 3 Phase, 4 Wires, 55 kVA 1994 vintage.
VARIAN E1000是由VARIAN Semiconductor Equipment Associates (VSEA)设计制造的离子植入器和显示器。它是一种静电加速器,能够将各种材料的离子植入平面或弯曲的基板,如晶圆。该装置旨在提供一种准确、可靠、经济高效的离子植入过程控制方法。VARIAN E-1000包括两个主要组件:离子源和离子束监控器.离子源由能够产生高强度、低能量光束的无膜离子源组成。该装置配备了可变电流,允许变化的束流和离子能量,允许精确控制植入过程。离子束监测器是一种测量离子束通量和能量的四极质谱仪,并为过程控制提供反馈。除了这些组件外,E 1000还具有多种其他功能,旨在提高流程性能。这些包括一个射束切断开关、电压稳定监视器和一个射束电流反馈系统,以允许一致的离子注入。此外,该设备高度自动化,允许无人值守操作和集成到自动化生产系统中。在影响方面,VARIAN E 1000大大提高了离子植入过程的准确性和可靠性。它非常适合用于半导体制造,提供精确的植入控制,否则很难实现。利用该设备,无需人工干预即可完成植入过程,大大降低了操作成本。此外,该装置还能够检测植入过程中的污染和其他杂质,从而实现更好的质量控制。总体而言,E1000是一种先进、可靠的离子植入器和监控器.它提供了一种简单、经济高效、准确的植入过程控制方法,使生产变得更加高效可靠。这种装置非常适合半导体制造,并可能继续成为该行业的重要组成部分。
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