二手 VARIAN E11071400 #149060 待售

VARIAN E11071400是一种工业离子植入器和显示器，设计用于各种半导体应用。它允许用户将每平方厘米10个离子沉积或植入硅片。该设备采用优化的光束线和数据收集系统，可以在操作过程中改变硅片的掺杂浓度。这允许精确控制掺杂剂浓度，并允许创造光学上优越的半导体材料。E11071400由两个主要组件组成：大型机和波束线。主机装有离子源和监控器、离子束控制单元和数据收集机。该工具还包括离子预沉积室和靶向扫描平台。光束线用于将离子从源转移到目标表面。它由离子减速器、质量分析资产、离子光学模型和加速/减速组件组成。集成的数据收集设备使用户能够监测和控制晶片中的掺杂浓度，跟踪植入过程中晶片特性的演变。这大大降低了加工过程中损坏晶片的可能性。该系统还具有可调节的光束点大小，允许用户减少植入面积。这有助于最大限度地减少相邻晶片中材料的污染。VARIAN E11071400配备了一系列安全系统来保护植入器和监控操作。其中包括防止意外暴露的机械联锁单元、打开预沉积室时的安全关机以及紧急停止功能。高速数据采集工具快速、准确地记录植入数据，设计为在多个窗口下运行，使用户能够快速、轻松地访问各种数据。资产还提供了全方位的数据可视化工具，帮助用户了解植入过程。总体而言，E11071400离子植入器和监控器是一种可靠的高性能模型，可用于各种半导体应用。它提供了无与伦比的离子束控制，精确的植入控制，以及丰富的安全特性，使其成为先进制造商的理想选择。