二手 VARIAN E220 #9230245 待售
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ID: 9230245
晶圆大小: 6"
优质的: 1994
Medium current ion implanter, 6"
Signal tower
Production wafer: (2) Wafers (P.P+ type)
Platen type: M-clamp
Loadlock: Left & right (P.P+ type)
CVCF Option: Interlock
System vacuum:
Ion source chamber: 1.1E-6T
Beamline chamber: 8.5E-7T, 4.2E-7
End station chamber: 1.8E-7
Pumps:
Terminal:
Dry pump
Turbo pump
Controller
E/S Chamber:
Dry pump
Dry pump / Booster pump
Cryo pump
L/L Cryo
Make / Model / Description
EBARA / 40x20 / Terminal dry
LEYBOLD / Mag W 1300 / Source TMP
LEYBOLD / Mag Drive / Source TMPC
PFEIFFER / - / Resol. TMP
PFEIFFER / - / Resol. TMPC
PFEIFFER / TMH 520 IS / Beamline TMP
PFEIFFER / - / Beamline TMPC
CTI / Cryotorr / End station C/P
GEN 1 CRYOPUMP 4F / - / Left loadlock
GEN 1 CRYOPUMP 4F / - / Right loadlock
EBARA / 40x20 / End station dry
CTI / 9600 / Cryo compressor
Process gas:
High pressure:
AsH3
PH3
Ar(N2)
BF3: SDS X2
High voltage range:
Extraction power supply: 0 keV~40 keV
Acceleration power supply: 0 keV~180 keV
Power supplies (Assembly):
Arc: 300VDC, 15A
Filament: 7.5VDC, 200A
Source magnet: 20V, 50A
Extraction: 40kV (Max:75kV), 50mA
Extraction suppression: -2kV, 50mA
Analyzer magnet: 40V, 125A (Max:150A)
Mirror power supply: 30kV, 2.5mA
Quadrupole magnet #1: 20V, 50A
Quadrupole magnet #2: 20V, 50A
Scan generator: -30kV, 10mA
Crucible (Vaporizer) power supply: 60kV, 1.2mA
Dipole lens magnet: 40V, 125A (Max:150A)
Acceleration: 180kV, 5mA (-> 8mA)
Acceleration suppression: -5kV, 5mA
Controller (Assembly):
Left arm servo
Right arm servo
Vacuum gauge
Scan faraday
Platen tilt servo
Vertical lift orienter
Uniformity
Liner motor servo amp
Orienter
Left elevator
Right elevator
Dose integrator
DI Temp monitor
Options:
Gas box type: 2-High pressure bottle, 2-SDS Insert
Source type: Bernas no vaporizer
Utilities:
Power: 208 VAC, 3-Phase, 5-wires, 45 kVA, 120 FLA
Air: 100~150 PSI
N2: 40~150 PSI
Cooling water: 60~150 PSI, temp: 4~21°C
1994 vintage.
VARIAN E220是半导体工业中用于工程薄膜生产的最先进的离子植入器显示器。该设备采用自校正方法，在监测整个过程中剂量变化的同时，确保精确放置离子。VARIAN E-220使用三种成分，包括离子源、植入室和剂量监测器。离子源用于使光束中的离子向样品加速。植入室容纳样品，并诱导电场作用于离子，因为它们通过该室。这种电场决定了离子的能量和方向，这对于精确的工程薄膜是必不可少的。剂量监测器用于确保离子的剂量得到控制和监测，以确保其不超过该过程所需的值。E 220包括一个控制离子束电压水平的电源，以及一个监视光束功率、位置和强度的传感器阵列。系统还配备了调节粒子扩散的装置，只允许在一定范围内的粒子通过。这样可以确保工艺中使用的颗粒在薄膜生产所需的参数之内。最后，VARIAN E 220设计了一个先进的智能控制单元，可以方便直观的操作。这使操作员能够轻松地为薄膜生产设置所需的参数,并密切监视过程,而无需手动调整值。总体而言，E220是一个有效和可靠的工具，工程薄膜生产由于其精确的控制离子放置和剂量，先进的控制机器，和传感器阵列。此工具允许制造商以最低的成本和工作量精确地设计薄膜。
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