二手 VARIAN E220 #9270111 待售
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ID: 9270111
Medium current ion implanter, 6"
Hard Disk Drive (HDD)
SEIKO SEIKI Turbo pumps
EDWARDS Booster pump with (2) ADIXEN scrolls
Load locks with VARIAN Turbo-V 250 pumps
CTI-CRYOGENICS 10F (on-board) Cryo pump, P/N 8116164G002R
CTI-CRYOGENICS 9600 Helium compressor
Bernas head type
Suppression surge protector
Reducer: 2 Steps
Mirror read back
Post scan chamber
Wafer clamp and roplat: E-clamp
Main monitor touch screen, 19"
Service monitor: Remote module
Auto decel
HV Probe
Exhaust leak detect
Gas interlock unit
Gas box type:
BF3: High pressure
PH3: SDS
AsH3: SDS
Ar: High pressure
Filament PS: CPI
Arc power supply: CPI.
VARIAN E220是一个离子植入器和监控系统，设计用于半导体工业。该装置能够提供离子注入和废水监测，以制造晶体管、二极管和集成电路等装置。VARIAN E-220能够以极高的精度从高能离子束中传递三代离子通量分布。由于植入单个晶片的成本大大降低,因此可以节省大量资金。E 220具有低光束发散的可变光束扩散，使其达到高剂量率，其晶圆速度和光束对准与可编程模式偏移的调制，优化光束优化因子，均匀度高于竞争性植入系统。VARIAN E 220设计为最大的弹性和可靠性，使其可以处理多种植入物和多种基底。它的标称工作能量范围可以在0.1至250 keV之间，其最大束电流范围在0.1至100.A之间。有了这些设置,操作员就可以使用业界可达到的最高精度的离子植入物。E220还包括一整套废水监测，允许控制和遵守任何与工艺有关的废气要求。通过其车载控制监控系统，用户可以监控真空泵、气流、压力、锁载室、射频发生器和诊断工具，允许根据需要对过程变化做出快速准确的反应。E-220是一种经济高效、可靠的离子植入和废水监测选择。它的各种特性和操作模式使其能够在最复杂的半导体制造过程中蓬勃发展。其近束发散、高剂量率和高精度离子植入物使VARIAN E220任何需要可靠高效植入的组织的最佳选择。
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