二手 VARIAN E220 #9361402 待售

ID: 9361402
晶圆大小: 6"
Medium current ion implanter, 6" Signal tower: Front panel Single wafer E-Chuck Loadlock: Left / Right VAT Gate valve missing Vacuum: Ion source chamber Beam line chamber End station chamber Pumps: Terminal: Dry pump Turbo pump (3) Controllers E/S Chamber: Dry pump Dry pump / Booster pump Cryo pump L/L Turbo pump Maker / Model / Class EDWARDS / QDP80 / Terminal dry pump PFEIFFER / TPH 1600 / Source TMP PFEIFFER / TCP 5000 / Source TMPC PFEIFFER / TPH 510 / Resol TMP PFEIFFER / TCP 310 / Resol TMPC PFEIFFER / TPH 240 / Beam line TMP PFEIFFER / TCP 121 / Beam line TMPC CTI / 250F / End station C/P CTI / 9600 / Compressor VARIAN / CTI100 / Loadlock TMP VARIAN / CTI100 / Loadlock TMPC EDWARDS / QMB250 + QDP40 / End station dry Process gas: Type / Gas / CGA Outlet HP / AsH3 / CGA 577 HP / PH3 / CGA 578 HP / BF3 / CGA 579 HP / Ar (N2) / CGA 580 High voltage range: Extraction power supply: 0 keV~40 keV Acceleration power supply: 0 keV~180 keV Power supplies (Assembly): Filament Vaporizer Source magnet Extraction Extraction suppression Analyzer magnet Mirror power supply (Decel) (2) Quadrupole magnets Scan generator controller Mirror Dipole lens magnet Acceleration Acceleration suppression Scan trek power supply Isolation transformer assembly Mirror read back assembly: 60 keV Controller (Assembly): Left arm servo Right arm servo Vacuum gauge Scan faraday Platen tilt servo Vertical lift orienter Uniformity Liner motor servo amp Orienter Left and right elevator Dose integrator DI Temperature monitor Options: Beam reducer Decel Gas box type: HP Source type: Bernas Faraday type: VARIAN Scanning faraday Utilities: Air: 100~150 PSI N2: 40~150 PSI Cooling water: 60~150 PSI Temperature: 4°C~21°C Power supply: 208 VAC, 3-Phase, 5-wires, 43.2 kVA, 120 FLA.
VARIAN E220是一种功能强大的离子植入器和自动化显示器,专为要求苛刻的离子植入应用而设计.其易于使用的特性和系统允许准确控制植入过程参数,从而导致基材的高质量和吞吐量。该设备提供多种工艺设置和功能,包括单离子或多离子、可变电压、外部光束设置、等离子体板以及一系列其他复杂功能。其精密的硬化工具旨在将掺杂剂以高浓度植入基质中,而不会损坏基质材料。该系统还提供了一个通用的植入过程,使其能够处理各种材料。它配备了内置的高密度传感器,测量离子电流密度和能量。传感器可以检测底物中的离子密度,以维持所需的植入速率。VARIAN E-220具有有效的环境控制,以确保底物的理想条件。其先进的环境控制将减少植入时使用的能量量,提高结果的准确性。该装置还具有由直流电供电的离子源,无需形成气体并降低污染风险。该源包含高效聚焦机,有助于稳定基板温度。其精密的光束线控制使得E 220成为可靠植入工艺的理想选择。特殊的硬件,如静电偏转器和离子导轨,提供精确控制光束和确保均匀性的植入。自动光束线控制将根据需要自动调整光束大小和形状,从而实现所需离子的精确有效注入。该工具配有功能强大的软件,使流程更方便用户和方便。数据记录、高级诊断和其他监控功能使跟踪和分析植入过程变得更加容易。该软件还支持高级统计分析和可核查记录。VARIAN E 220是一种用途广泛且可靠的资产,可满足先进的离子植入需求。它具有广泛的特性和功能,非常适合解决涉及多种材料的要求苛刻的植入要求。其先进的硬件和软件使其成为在高精度水平上实现各种结果的理想选择。
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