二手 VARIAN E220HP #9259892 待售
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ID: 9259892
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
Ion implanter, 8"
Gas cabinet:
Gas cylinder volume (liter): 1.0 Liter
Internal Ar
AsH3 Cylinder type: Vaporizer
PH3 Cylinder type: High pressure
BF3 Cylinder type: High pressure
Gas line purge
Vaporizer P.S
Source:
Source head type: Bernas
No reducer type 2 step
Beam line:
Scan generator: 20 kV
Mirror: 30 kV
No automatic graded decel relay and P/S
No hall probe
End station:
Old platform
M-Clamp
Three light signal tower
VESDA Smoke detectors
Service monitor
No control computer CVCF
No video viewing of wafer loading
Accessory:
STP-1000C Source turbo pump
STP-300C Analyzer turbo pump
STP-1000 Beam line turbo pump
QDP80 Source rough pump
QDP40 Stage pump
QMP250/QDP40 End station pump
SUZUKI SHOKAN A250F Target cryo pump
SUZUKI SHOKAN A100L Load lock pump
SUZUKI SHOKAN C300 Cryo compressor
No remote PD
Vaporizer power supply missing
1996 vintage.
VARIAN E220HP是一种用于将精确剂量的离子植入半导体材料的高精度离子植入器和监测器。它是一种通用的自动化设备，可用于各种植入应用。该系统配备了多种能够最大限度地提高效率和精度的功能。VARIAN E220 HP由离子源、加速器、光束控制单元和工艺室组成。离子源产生并加速注入的离子达到精确的能量。离子源配有真空和冷冻泵送系统，以及用于最佳植入性能的温度控制器。加速器的设计目的是为基板提供高能离子束。它也可用于在植入基板前将光束能量调谐到更下游。光束控制机是为精确控制光束角度和强度而设计的.该工具还具有一个可以在植入过程中精确调节离子提取和束角的提取器。该工艺室由不锈钢外壳构成，可提供出色的防污保护，并能精确控制工艺条件。该资产具有高度自动化的用户界面，允许用户快速、轻松地设置复杂的植入过程。离子元素组成、离子能量和束角等参数都可以直接从用户界面调节。此外，该模型还可以通过外部计算机与其他系统集成。这在处理多种植入过程时提供了额外的灵活性和精确度。E 220 HP旨在实现最高的可靠性和一致的性能。它旨在承受严谨的环境条件，例如工业应用中出现的温度和湿度变化。这样可以确保设备即使在恶劣的工作条件下也能不间断地工作。此外，该系统还配备了一些诊断和监测系统，可以在设备故障发生之前对其进行检测和识别。对于那些需要将离子精确植入半导体材料的人来说，E220 HP是一个极好的选择。其先进的控制和自动化系统提供了最大的精度和效率,使用户能够最大限度地提高生产效率。其可靠的性能使其适合广泛的工业应用。
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