二手 VARIAN E500 #9085170 待售
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ID: 9085170
晶圆大小: 6"
优质的: 2005
Medium current ion implanter, 6"
Signal tower: front panel
Production wafer qty: single wafer
Platen type: M-clamp
Load lock: Left, right (walkout sensor)
System Vacuum:
Ion source chamber
Beam line chamber
End station chamber
Terminal dry: Ebara 4020
Source TMP: Seiko STP-1000C
Source TMPC: Seiko STP-1000C
Resol TPM: Seiko STP-301C
Resol TMPC: Seiko STP-301
Beam line TMP: Seiko STP-1000C
Beamline TMPC: missing
Endstation C/P: CTI On-Board 10F
Compressor: Suzuki
Load lock TMP: Varian CTI100
Load lock TMPC: Varian CTI100
Endstation dry: Ebara 5020 + boost
Process Gases:
AsH3: SDS type, VCR 1/2"
PH3: SDS type, VCR 1/2"
BF3: SDS type, VCR 1/2"
Ar(N2): DISS type, CGA 580
Power Supplies:
Arc: 300VDC, 15A
Filament: missing
Source Magnet: 20V, 50A
Extraction: missing
Extraction suppression: missing
Analyzer magnet: 40V, 125A (Max 150A)
Mirror power supply: 30kV, 2.5mA
(2) Quadrupole Magnet: 20V, 50A
Scan generator: -30kV, 10mA
Mirror: missing
Dipole lens magnet: 40v, 125A (Max 150A)
Acceleration: missing
Acceleration suppression: -5kV, 5mA
Acceleration stack: missing
Controller:
Left Arm Servo
Right Arm Servo
Vacuum gauge
Scan faraday
Platen tilt Servo
Vertical lift orienter
Uniformity
Linear motor servo amp
Orienter
Left elevator
Right elevator
Dose integrator
DI Temp Monitor
Terminal PD DC PS: missing
Options:
Beam energy probe: yes
2_step beam reducer: not used
Auto decel: missing
Gas box type: HP (2 SDS bottles, insert)
Soruth type: Bernas
Faraday type: Varian scanning Faraday
Vaporizer PS: none
Utilities:
Power: 208VAC, 3 phase, 5 wires, 43.2 KVA, 120 FLA
Air: 100 ~ 150 PSI
N2: 40 ~ 150 PSI
Cooling water: 60~150 PSI, 4-21°C
High Voltage Range:
Extraction power supply: 0 keV - 70 keV
Acceleration power supply: 0 keV - 180 keV
1995 vintage.
VARIAN E500是一种高性能的离子植入器和显示器,旨在满足各种离子植入要求。它利用节省空间的单源电源,可以处理1 keV至10 keV的离子束能量。VARIAN E 500采用模块化设计,结合了低能量精密植入能力和高离子电流。这种卓越的灵活性为各种半导体器件制造操作提供了最大的生产力。除了模块化设计外,E-500还采用了最新一代的VARIAN串联技术,提供高精度、高效的离子注入不同的晶圆尺寸和材料。它采用了高度先进的串联技术,创造了增强的光束均匀性、时间控制和精度。VARIAN E-500′s控制设备使用最新的高级VARIAN ACCeDirect (ActiveConfigured Control),它提供了全自动的错误监控系统。借助ACCeDirect单元,E 500可以通过各种传感器轻松监测,包括植入物末端监测,以及光束脉冲持续时间和光束定位反馈。此外,该机还提供先进的数据分析和控制功能,有助于在生产过程中保持峰值光束的均匀性和精度。E500′s种电源工具包括一个强大的射频电源,具有高达10kW束的能量。这与它的模块化设计相结合,使它能够在高电流下植入低能离子。这使得VARIAN E500产生的剂量率明显低于大多数其他商用离子植入器,使其成为生产级离子植入过程的理想解决方桉。VARIAN E 500采用IEEE-488通信标准构建,使其能够轻松与其他类型的生产设备集成。它还得到了VARIAN承诺提供最高级别工程支持的支持。总体而言,E-500是一种功能强大但效率高且用户友好的离子植入器和监视器。它以可调光束能量和精确控制选项提供了优异的植入能力和生产率。此外,它与各种设备兼容,并提供了一个开放的体系结构,可轻松集成到现有的生产过程中。VARIAN E-500是任何需要高性能等离子体离子植入器的半导体制造设施的理想解决方桉。
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