二手 VARIAN EHP-500 #9015612 待售
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ID: 9015612
晶圆大小: 8"
优质的: 1998
Medium current ion implanter, 8"
Wafer shape: SNNF (Semi Notch No Flat)
Wafer cassette: 8" plastic Miraial
No SMIF interface
Power distribution: 208 V, 60 Hz, 75 kVA, 3 phase Y-connection
Control system: 1 GHz computer
Software version: 13.43.29
Beam energy:
5-250 keV (single charged ion)
250-500 keV (double charged ion)
500-750 keV (triple charged ion) auto accel/decel mode
Gasbox 1: Ar HP external supply
Gasbox 2: BF3 HP
Gasbox 3: ASH3 SDS
Gasbox 4: PH3 SDS
Cryo pump: Daikin MARATHON-12 V28MC612SMR
Cryo compressor: Daikin U108CW
TMP: Edwards STP-1000C
TMP 2: Edwards STP-1000C
TMP 3: Seiko STP-300C
TMP 4: (2) Varian V-300HT
Ion source: Bernas type, W-Arc chamber
No dual vaporizer
No beam reducer
Platen: E-CLAMP composite
1998 vintage.
VARIAN EHP-500是一种离子植入器和监控器,能够生产和控制各种表面处理,使各种制造商能够加工具有各种物理特性的材料。它具有集成的石墨聚焦器、扩展深度的电子微型离子源和获得专利的绝缘离子源屏蔽设备。VARIAN EHP500中强大的石墨聚焦器能够在基板的近、远表面提供高均匀功率密度，提供比同类系统更高的精度和控制。此外，扩展深度的迷你电子离子源允许更大范围的能量工作与，以及增加深度的渗透和均匀性。获得专利的绝缘离子源屏蔽系统在材料表面提供了更加一致的处理，进一步提高了精度和可重复性。EHP 500具有多种可定制的参数,可帮助用户从底物处理中获得所需的结果。这包括全范围的扫描参数,如扫描频率、幅度、扫描速度和驻留时间,以及可调节的特征参数,如修剪尺寸、聚焦器深度、间隙时间和晶圆时间。此外，该设备还有一个功能强大的流程监视器，可以即时评估治疗进度，使用户能够根据需要进行必要的更正和调整。EHP500还具有多种安全功能，以确保最大限度的生产力和人员保护。它配备了在电压、负载或异常电流丢失时发生的过载保护单元，并在存在任何不安全条件时自动关闭。此外,还会对设备的软件进行连续监控,以便在硬件发生事故或故障之前对其进行检测。总之，EHP-500是一种高效、可靠的离子植入器和显示器，为用户提供精确、可重复的表面处理和众多可调参数，以实现最大控制。其强大的石墨聚焦器、扩展深度的电子迷你离子源和绝缘离子源屏蔽机提供了无与伦比的精度和多功能性，而内置的过程监视器和安全功能则确保了最大的安全性和生产率。
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