二手 VARIAN EHP-500 #9092902 待售
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ID: 9092902
晶圆大小: 4"
优质的: 2001
Medium current ion implanter, 4"
Rotating, uncooled platen with silicon-coated 6-point clamp
(225) Wafer capacity highly polished load locks
Tungsten Bernas Ion source
HP gas box
Inert (Ar) connection
2-Stage low beam aperture
Ion beam filter
End station pumping: (2) varian 300HT loadlock turbo, (1) CT-10 chamber Cryo
Metals reduction kit
Si-coated acceleration column
Graphite target chamber side wall shields
Resolving chamber cold cathode vacuum gauge
V11 S/W, real time beam, purity check S/W
SECSII host communications
2000 vintage.
VARIAN EHP-500是半导体工业的离子植入器和监控器。它能够以严格的精度生产高能掺杂粒子，同时还能提供可靠的准确性和监测选项，以确保实现所需的植入率。植入器具有集成电源，电流精度高，稳定性高。它能够在掺杂粒子上提供多达20个微安放的一系列能量，并能吸纳高达36,000瓦的功率。在这些级别上，VARIAN EHP500可以很容易地注入和监测1-500KeV范围内的高能元素。这使植入者能够量身定制不同掺杂剂的植入物，以满足特定的应用要求。EHP 500还使用离子束能量控制和监控软件，允许在植入前和植入过程中轻松验证束的能量轮廓。操作员可以利用这个软件来管理多达九种不同的光束能量和不同的持续时间，以达到最大的植入精度。此外,该软件还提供实时诊断反馈,以帮助优化过程。除了强大的植入能力外，EHP500监控器还提供原位离子物种监测和高速数据收集及沉积过程分析。其质谱检测器紧密集成在系统中，用于离子束的分析和控制。该监视器以10nm分辨率测量植入物深度的范围，使操作员能够在各种基质上定制植入物深度和能量。EHP-500旨在保证半导体植入物生产的准确性和可靠性。它的电源和软件为用户提供他们需要的精确控制和反馈，以确保植入物按照最高标准生产。
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