二手 VARIAN VIISion 80 #9039557 待售

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ID: 9039557
High current ion implanter, 8" Safe Gas Delivery System Cryo, fourth implant chamber SECS II automation Two dimensional beam profiler Angled implant, automatic Classic End Station With the addition of: Zero integral magnetic faraday Includes: +7 to -7 degree wafer tilt angle. Plasma flood gun. Horizontal wafer handling. Full system automation. Operator touch screen. Tungsten Bernas ion source. Silicon coated disc and spillover cup. 3 light signal tower 1995 vintage.
VARIAN VIISion 80是一种用于半导体和微电子生产的高能、高通量离子植入器。它设计用于必须严格和准确地控制离子的植入剂量、能量和流度的应用。VIISion 80使各种材料的离子植入具有各种光束配置,具有极好的均匀性和可重复性。VARIAN VIISion 80利用四极管、平行电子枪和分束阴极装置,提供高达80kW的离子注入能量。该枪以5-200 kV的中性能量运行,并提供最大15mA束电流。该枪能够输送2至254 amu的离子,能量范围100 keV至最大80kV。离子束光斑大小可配置在0.3-1.0mm之间。该设备具有高容量电源模块,可提供可靠、可重复和高度精确的植入能力。它还提供了用户可定制的植入物配置文件,允许优化的离子植入物操作。该系统包括扫描光束电流控制,可实现可重复、均匀的植入效果.VIISion 80还具有独特的监控单元,允许测量和控制背景电流、腔室性能、光束电流和植入物均匀性。这种监控机器对于确保高精度、可重复的植入操作至关重要。监视器工具提供了许多自我诊断功能,可以提醒操作员注意任何异常或错误。最后,VARIAN VIISion 80的设计考虑到安全性,它具有安全互锁资产,可阻断对高压组件的访问,并具有接地连接,以确保充分的电气安全。该模型还包含几个硬件和软件组件,这些组件旨在确保可靠的操作并降低受伤风险。总之,VIISion 80是一种高度精确的离子植入器,能够在广泛的能量范围内输送离子,并利用独特的监测设备来确保可重复、均匀的植入物操作。该系统设计为操作简单,但高度可靠和安全。VARIAN VIISion 80以其最先进的电源,非常适合半导体和微电子生产。
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