二手 VARIAN VIISta 810 HP #9191582 待售
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ID: 9191582
晶圆大小: 12"
优质的: 2002
Medium current implanter, 12"
Dosing performance:
Range: 1E11-1E16 ions/cm2
Uniformity: ≤ 0.5% (For implant energies > 5 keV)
Repeatability: ≤ 0.5% (Wafer-to-wafer, cassette-to-cassette)
Implant angles:
Tilter: ± 60° in X and Y
Orientation: 0 - 360°
Rotation: Equivalent multi-tilt, quad mode
Angle control accuracy and repeatability:
Beam parallelism: ± 0.1°
X and Y Tilter: ± 0.1°
Orientation: ± 1.0°
Wafer cooling:
200 mm: ≤100°C at 800W Beam power
300 mm: ≤100°C at 900W Beam power
Particles: <0.05/cm2 (Mean value) for particle size > 0.16 µm
Metals contamination:
Heavy metals: ≤ 5 ppm (TXRF)
Aluminum: ≤ 5 ppm (SIMS)
Implant condition: 80 keV, 1e16/cm2
Ion mass resolution:
Energy > 5 kV, M/ΔM = 30
Energy > 20 kV, M/ΔM = 50
Energy > 80 kV, M/ΔM = 85
Mechanical throughput:
200 mm: > 270 WPH
300 mm: > 250 WPH (With buffer and 25 wafer cassette, Steady-state)
2002 vintage.
VARIAN VIISta 810 HP是一款先进的离子植入器和显示器，旨在对植入过程提供异常精确的控制。该植入器用于半导体和电子工业，能够提供快速、可重复和可靠的性能。VARIAN VIISTA 810HP由强大的驱动设备和精选的专有软件提供动力,可执行高级植入操作。它的高压源提供高达3安培的植入物功率，可选的光束电流范围为2-500 }A。对于需要更高温度的操作,此模型还可以安全地容纳高达200 °C的温度。该植入器还具有两个独立的光束分析系统，一个测量光束电流，另一个测量角度。这允许高精度植入操作，并允许先进的过程，如选择性发射器掺杂和陡角植入。在性能方面，VIISta 810 HP具有优异的吞吐率，实现了高达每小时40万晶圆的植入吞吐量。其高速部分归功于其全新的进料腐蚀垫设计，防止了颗粒堆积，确保了高品质的植入物。植入器还具有远程监控系统，允许用户访问仪器的数据并进行远程调整。此功能还允许在需要时对设备进行方便的远程诊断和修复。总体而言，VIISTA 810HP是一款先进的植入机，旨在为半导体和电子行业提供卓越的植入精度和质量控制。它具有高压、大功率运行和两个独立的光束分析功能,以及远程监控工具和令人印象深刻的吞吐量速率。这种植入器肯定是任何工业植入操作的可靠和经济高效的工具。
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