二手 VARIAN VIISta PLAD #9262785 待售

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ID: 9262785
晶圆大小: 12"
优质的: 2005
Ion source implanter, 12" Single wafer pulsed plasma doping system, 12" Includes: Diborane RF process chamber, 12" Small WIP buffer, 12" BF3 Process chamber DC Power supplies: Pulse width: Up to 200 µs at 10 kV Pulse frequency: Up to 10 KHz at 10 kV 2005 vintage.
VARIAN VIISta Plasma Implante rand Monitor是一款用途广泛、功能强大的离子植入器和显示器,用于半导体集成电路制造领域。它能够以高精度和高精度的方式将离子植入基板,并通过最先进的原位诊断监测植入参数(如束电流、电压和剂量)。VARIAN VIISta配备了五轴坐标运动阶段,实现高精度光束对准和晶圆等基板的连续加工。私有部门软件包允许精确控制光束设置,允许用户根据正在制造的半导体设备的类型定制过程。此外,VARIAN VIISta还配备了10个目标等离子体发生器,允许植入多种离子。先进的离子诊断直接集成到机器中,包括多目标解吸力分析仪,可以对掺杂剂浓度和能量深度分布进行精确监测。另外,能量扩散分析仪提供了高度详细的能谱.这种先进的监控系统允许用户获取关于植入参数的反馈,并实现优化和修改,以实现对离子植入过程的精确控制。VARIAN VIISta与它的准分子激光源一起,是一种极为高效的精密离子植入工具,允许制造过程中前所未有的准确性和可重复性。其先进的诊断和软件控制套件允许用户微调半导体器件制造中的离子植入过程。它为开发者提供了一个有效的平台来优化他们的过程以提高速度、准确性和产量。
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