二手 VARIAN VIISta PLAD #9284877 待售

VARIAN VIISta PLAD
ID: 9284877
晶圆大小: 12"
Ultra low energy plasma implanter, 12".
VARIAN VIISta PLAD是一种离子植入器和监控器,设计用于半导体晶圆加工中提供先进的掺杂控制。在半导体制造中,离子注入是将各种元素的离子战略性地放入基材中,产生复杂半导体器件制造所必需的不同电导率水平的必要步骤。VIISta PLAD是一种全自动设备,能够在单个模块中同时进行离子注入和监测。该系统提供精确、可重复、准确和经济高效的结果,同时提供最大4英寸(100毫米)的负载大小,以满足通用的生产需求。VIISta的最大光束能量接近1 MeV,能够在各种基材和晶片中植入复杂、高可靠性的设备。此外,VARIAN VIISta PLAD提供了广泛的可用设置和功能,允许用户根据特定要求自定义植入过程。该单元由基于PC的开放式平台控制机器提供动力,便于实现专用算法。VIISta还具有高级数据采集功能,以确保获得最佳结果。该工具提供了从1nA到5mA的光束电流选择,最大剂量率超过1 x 1013 离子/cm2/min。VIISta的整个工作区域被一条刚性的六边形梁线所包围,该梁线提供了防止真空泄漏的最佳保护。集成真空资产在工作区域内循环清洁、过滤的空气,以减少加工过程中的杂质水平。这有助于在掺杂不同的基材和晶片时提供一致、可靠的结果。VIISta还配备了高级离子源封装。这包括用于产生离子的微波源和大量可供选择的气体。离子源模块为每次植入操作提供光束电流、形状和光斑大小的可编程控制。VIISta PLAD是一种先进的、具有高度适应性的植入和监测模型,它提供了比其他可用系统更大的剂量均匀性和改进的过程控制。它提供了自动参数化功能,确保了最佳的工艺表征,以及各种各样的可自定义选项,使其成为高级半导体晶圆处理的理想选择。
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