二手 CUSTOM Ion Beam Depostion #9140925 待售
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ID: 9140925
优质的: 1987
System
Internal dimension: 41.5" x 27"
(1) Ion Tech MPS5001 power supply
(1) ION TECH 15cm ion beam gun
Substrate rotation system: Two sets at different coating distances. The upper is 3 planets of approximately 6.5" squares. The lower 3 planets of approximately 6" diameter.
(2) Crystal thickness monitors, one for each of the planetary tooling sets.
Sputtering Target: Max of 2 materials at a time, 10" x 10".
Materials previously used: TiO2, SiO2, HfO2, Si, Al203, B, Ta Cryopump and compressor have been removed. When unit was hooked up to pump and running, the pressure was 2x10-6 Torr and pump-down time was approximately 4 hours.
Valves and controls: Gas metering valves, mass flow controller.
Does not include: Cryopump and compressor or substrate heaters.
1987 vintage.
CUSTOM离子束沉积（Ion Milling）是在真空环境中离子沉积到基板表面的过程。离子是由一束电子束产生的，这些电子束朝着基材中的目标材料加速。然后离子通过铣削室中存在的电场和磁场以高达每秒几百公里的速度穿过基板。铣削过程受到高度控制,可在纳米级和/或超薄膜和材料的制造中广泛应用。离子束沉积（IBD）本质上是物理气相沉积（PVD）的一种形式，其中离子铣削设备提供的一束离子束将材料沉积在基板表面上。这种沉积方法更为精确，允许以两种方式之一对材料进行CUSTOM沉积。第一种称为离子辅助沉积，其中离子在沉积过程中为目标材料通电，使其更容易粘附在基质上。第二种称为离子增强沉积，由于离子密度的增加和束材料向基质扩散的增加，增加了沉积速率。IBD系统通常具有一些常见的组件，如离子源、基板、沉积室真空系统和光束生成单元。离子源是产生离子束的装置。这通常是高压负离子源。底物可以是任意数量的材料，如金属、半导体、玻璃和聚合物。将基板插入真空室中，然后将其泵送至接近真空水平，以便对沉积过程进行高度控制。光束产生机是使离子束向基板加速的装置。此工具通常使用电磁场和/或静电聚焦元件来控制光束动力学。一旦离子到达基板，它们就会被嵌入，形成纳米复合材料层。沉积过程是一个微妙的过程，从压力、电流和磁场强度等精确参数的角度密切监测。可以精确控制沉积层的厚度，以及层数和沉积速率。CUSTOM离子束沉积是一种用于制造CUSTOM纳米级材料的通用工具,能够创建几乎所有材料的CUSTOM层。IBD可以为MEMS、光学和摩擦学元件等应用提供材料，以及分子的高度有序阵列。随着研究人员不断尝试和创新CUSTOM离子沉积，这一过程实际上还处于起步阶段。
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