二手 FEI DualBeam 835 #9160371 待售

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FEI DualBeam 835
已售出
ID: 9160371
晶圆大小: 8"
Dual beam Focused Ion Beam (FIB) system, 8" Automated loadlock Motorized rotary tilt stage: -5° to 55° Magnum ion column for fibbing and searching Ultra high resolution mode for SEM imaging Gas injection: Platinum Delineation etcher XeF2 Etcher Operating voltage: 500 V to 30 kV.
FEI DualBeam 835是一个强大的离子铣削系统,结合了聚焦离子束(FIB)和扫描电子显微镜(SEM)。该系统用于成像、纳米加工和材料分析。该FIB源的高能广束离子束,然后磁聚焦到样品。然后用离子束研磨样品,用SEM分析产生的材料。离子在10至70 kV之间加速,允许使用多种铣削策略,包括溅射、硅蚀刻和精细蚀刻。该系统还配备了多种可用于铣削过程的工具,如氙离子源、的液态金属离子枪和氦离子源。DualBeam 835配备了强大的电动平铺台,可对直径不超过100 mm的样品进行铣削。这个阶段由平板控制,允许精密铣削和容易对准。它还具有双平面电子成像功能,提供地形和组成特征的成像。集成相机提供高达0.5纳米每像素的分辨率。FEI DualBeam 835还具有多种用于控制离子束、处理数据和分析结果的软件包。它与Windows、Linux和Mac操作系统兼容。DualBeam 835为研究和工业应用提供了成像、纳米加工和材料分析的强大组合。其宽广的离子束、强大的拼贴阶段和高分辨率的成像功能使其用户能够轻松实现纳米级精度。
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