二手 FEI Helios NanoLab 1200 #9312072 待售

ID: 9312072
Wafer dual beam system Does not include Hard Disk Drive (HDD).
FEI Helios NanoLab 1200是一种通用的离子铣削系统,可用于操纵包括晶体和聚合物纳米粒子在内的多种材料的表面。它是一种先进的离子源,能够产生15-200 nm范围内的纳米级尺寸修改。该系统配备了高扭矩电动微操纵器和物镜,可以将聚焦离子束(FIB)光束精确定位到目标位置。显微镜的纳米到微米分辨率允许容易的可视化和表征样品表面形态。离子束诱导的高达2000 oC的加热也可用于创建热微结构,如纳米到微槽。Helios NanoLab 1200配备了几个离子枪源以最大化系统的多功能性。主要的来源是液态金属,这些金属被引入加热的熔炉,在FIB的轰击下,液态金属被汽化和电离,然后离子指向样品。或者,气相离子和汽化液态金属离子可以注入离子阀。这种离子阀还被用于输送能够传递精确离子束形状和大小的分子离子,从而提供高长宽比结构。然后可以调整离子束以达到所需的表面地形或用于离子成像目的。FEI Helios NanoLab 1200中使用的双压电扫描仪允许对样品表面进行快速、三维成像和铣削。可用于精确控制工作距离、视场、电压等成像参数。此外,它还能够快速准确地对样品进行表征,并制造出精确的结构.此外,Helios NanoLab 1200还采用了集成成像和分析工具,用于样品表面的化学、元素和结晶特性。它还具有先进的过程自动化功能,从离子束铣削到样品沉积,以及一个完整的以太网接口,便于联网和远程操作。凭借其最先进的功能,FEI Helios NanoLab 1200是用于创建复杂纳米结构的可靠且通用的工具。
还没有评论