二手 FEI Helios NanoLab 400 #9194575 待售

FEI Helios NanoLab 400是一款提供高分辨率、三维表面分析和精确样品制备的多功能离子铣削设备。高性能系统提供可变腔室压力、高沉积速率和卓越的离子铣削能力。这使得研究人员能够获得可重现的、精确的纳米尺度深度剖析和用于各种应用的表面准备。Helios NanoLab 400铣削单元由离子源、扫描电子显微镜（SEM）、高真空室和精细的计算机控制机器组成。离子源产生原子大小粒子的高能束，然后被引导到样品上。在SEM中,使用梁检测样品的形状、大小和化学成分。高真空室将样品从外部环境影响中分离出来。Helios Nanolab设计用于提供精确、可重复和受控的去除和沉积过程，以制备各种样品。其高级特性包括脉冲抛光工具、双离子束资产和多维扫描。可分离的离子束有助于精确控制蚀刻和溅射的范围和深度。多维扫描可确保在从地形到元素组成的各种层次上对样品进行检查。此外，该模型可以对材料和器件的表面结构进行高分辨率成像、化学表征、深度剖析和横截面分析。FEI Helios NanoLab 400还配备了一系列先进的离子蚀刻源，如热、化学和机械源。这使得研究人员能够对样品表面进行精确的修改，以利于纳米加工和创建复杂的3维结构。Helios NanoLab 400的可调腔室压力也支持各种过程，让研究人员对广泛的样品达到最佳效果。此外，双级真空室通过消除多个腔室断裂来增加设备的样品制备时间，以准备样品进一步检查。由于双层腔室压力，样品制备过程可以高精度、高效率地进行。FEI Helios NanoLab 400独特的设计、高精度的工程、精密的计算机控制系统为研究人员寻找可靠、易于操作、先进的表面分析和制备单元提供了一个功能强大、用途广泛的工具。