二手 FEI Helios NanoLab 400 #9285570 待售

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ID: 9285570
优质的: 2007
Dual Beam Focused Ion Beam (DB FIB) system Microscope controller PC Monitor Switch box Keyboard and mouse Electrical console EDWARDS XDS 35 Vacuum pump NESLAB ThermoFlex 900 Chiller EVACTRON 10 Plasma Cleaner Does not include OmniProbe Options: SEM Column Elstar FIB Column Sidewinder (4) GIS: Idep, IEE, PT, EE Power supply: 190-240 VAC, 50/60 Hz, Single phase 2007 vintage.
FEI Helios NanoLab 400是一种Er/FIB双光束设备,能够将材料精确磨蚀到纳米级。聚焦离子束(FIB)和电子束(EB)系统的金标准,FEI Helios是一种备受追捧的离子铣削系统。利用同时电子源和离子束源,像倾斜样品环境这样强大的特性成为标准,扩大了更复杂的3D烧蚀场景的能力;对先进的分析和材料科学项目表示欢迎。Helios NanoLab提供出色的分辨率,改进了其他控制系统,可实现更大的x-y控制,清晰明了,可实现细致、精确的超精细铣削应用。利用灵活的光路,各种检测器可以专门切换,以优化成像性能和用户体验。NanoLab 400还运动原子分辨率X射线荧光(XRF)光谱,允许快速无损的微量元素分析。铸造精度和整体磨损性能使Helios NanoLab 400成为进行精密纳米加工的研究人员和科学家的理想设备。Helios公司采用超稳定电子光学技术进行STEM等定性技术,为大型和小型研究项目提供了能力。利用EB和FIB光束作为镶嵌在同一基板上,显微镜可以获得比以往任何时候都更高的分辨率,从而根据样本量,实现高达一百万倍的空前放大能力。Helios机器由于其低漂移和先进的光束监测和校准工具,即使在高能铣削过程中也能实现近乎瞬时的校正和分辨率响应,因此备受追捧。对于高通量样品磨损和分析,FEI Helios NanoLab 400的双光束柱和1纳米以下的顶点分辨率提供了无与伦比的性能,使其成为纳米结构、铣削、成像和分析等应用的理想资产。
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