二手 FEI Helios NanoLab 450S #9363521 待售
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ID: 9363521
Dual beam SEM System
Electron source: Schottky thermal field emitter
Ion source: Gallium liquid metal, 1000 hours
STEM Resolution: 0.8 nm
SEM Resolution: Optimal WD
0.8 nm at 15 kV
0.8 nm at 2 kV
0.9 nm at 1 kV
1.5 nm at 200 V with beam decleration
Coincident WD
0.8 nm at 15 kV
0.9 nm at 5 kV
1.2 nm at 1 kV
Ion beam resolution at coincident point:
4.5 nm at 30 kV
2.5 nm at 30 kV
Stages:
Flipstage with in-situ STEM Detector
Omniprobe sample extractor
5 Axis all piezo motorized
100 mm XY motion
Loadlock maximum, 3"
Sample types:
Wafer pieces
Packaged parts
TEM
Grids
Whole wafers, 4"
Maximum sample size: 80 mm diameter
User interface:
Windows GUI with integrated
SEM
FIB
GIS
Simultaneous patterning
Imaging mode
GIS:
Carbon
Tungsten
Platinum
Accessories:
Chiller – NESLAB ThermoFlex 900
UPS
SCS10i Pump
Landing voltage:
SEM: 50 V - 30 kV
FIB: 500 V - 30 kV.
FEI Helios NanoLab 450S是一种双束离子铣削设备,提供高精度和精确度的独特组合。该系统提供了适用于高级样品表征的超精确铣削工艺。双束单元包括离子束柱、柱内扫描电子显微镜(SEM)级和高分辨率数字成像机。离子束柱具有高电流、高能量和高分辨率离子,使得各种样品材料和深度都可以被铣削。柱内SEM级提供高放大倍率和亚微米分辨率的样品扫描和成像。此外,集成数字成像工具为样品提供原位和后铣削成像,包括立体光学图像和3D重建。Helios NanoLab 450S具有广泛的综合样本环境和功能。它配备了用于光栅和平行铣削的气动样品旋转台,具有精细手动操作的20倍样品台,用于样品装载的自动位置托盘,以及用于定制样品砖的托盘。该资产提供高达0.5 μ m的精确位置分辨率,并且能够进行大面积和深场铣削。它还具有可变压力样品室,在较低的加速度电压下实现较高精度的低真空铣削。此外,该模型还包括双离子源、高强度电子源和用于优化铣削束偏转的双萃取电子枪。FEI Helios NanoLab 450S设计用于广泛的工业和学术应用,如缺陷分析、MEMS和微纳米制造,以及SEM、TEM和金相的样品制备。该设备为各种材料中的各种铣削任务提供了灵活可靠的铣削解决方桉。它旨在以最小的表面损伤、可靠的重复性和高水平的结构保真度来实现高生产率。
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