二手 FEI / MICRION 9500 EX #9383328 待售

ID: 9383328
Focused Ion Beam (FIB) system Stage type: 200 mm x 200 mm Load lock system IBM RISC System 6000 43P 140 Computer MCP Detector I-Gun type: column 5 nm Beam current: 3 pA - 931 pA (50 kV) Depo system: Tungsten Tmcts O2 H2O Cl2 / Br2 XeF2 Vacuum pump: Turbo molecular pump (2) Mechanical pumps (2) Ion getter pumps.
FEI/MICRION 9500 EX是一种先进的离子铣削设备,设计用于制备用于透射电子显微镜(TEM)分析的大样品。离子铣削系统非常适合需要无与伦比的性能、精度、稳定性和便利性的用户。FEI 9500 EX可容纳大样品,直径可达6英寸。它的大样本量允许在一个步骤中铣削较大的目标区域(ROI)。MICRION 9500 EX还具有"旋转蚀刻"功能,可快速蚀刻直径最大为3.6英寸的较大样品。9500 EX采用符合人体工程学的设计,在铣削过程中提供卓越的舒适性。它的倾斜和可移动腔室便于取样,便于安装和拆卸用于铣削不同尺寸和类型样品的单元。FEI/MICRION 9500 EX采用先进的惯性聚焦技术设计,具有最先进的负离子源。这项先进的技术提供卓越的性能和稳定性,为用户提供最精确和准确的结果。精密的惯性聚焦机还具有先进的光束控制和多重光束监控技术,使用户可以精确对准光束并调整焦点,以最大限度地准备样品。集成的放大倍率和图像捕获工具有助于实现自动化的连续成像和聚焦。此功能允许用户在铣削过程中自动调整焦点并收集样品的高分辨率图像。自动成像系统还会在铣削过程中排除离子束的任何潜在问题。为确保最大安全和防止样品污染,FEI 9500 EX采用了先进气流模型的综合抽水设备。该设备的工作原理是从铣削室中提取气载颗粒,保护样品免受进一步污染。MICRION 9500 EX提供多种离子束选项,从宽束离子(E-Beam)到聚焦束离子(FIB)。可用的离子电流范围很广,在铣削过程中为用户提供了更高的精度和精确度。9500 EX也通过CE标志认证,用于欧洲和其他国际市场。FEI/MICRION 9500 EX是一种先进的离子铣削系统,设计用于TEM的精确样品制备。它的先进技术、大样本量和自动化成像单元使其成为需要无与伦比的性能和便利性的研究人员的理想选择。
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