二手 FEI / MICRION 9500 #9210449 待售
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ID: 9210449
Focused Ion Beam (FIB) system, parts machine
Source:
Gallium ion source
Resolution: 5 nm (Potentially up to 10nm)
Image:
Micro channel plate
Analog channelling with 256 grey level for high contrast
Gas injector:
Tungsten (for deposition)
Chlorine for (selective etching)
XeF2 for (selective etching)
Spare port for other gases
Charge:
Neutralization: E gun (Filament issue)
Load / Unload: Fully automatic load lock
Vacuum system: PFEIFFER Turbo pump system with fore pump
Stage: 8”
(6) Axes eucentric tilt stage
Tilt: 0–60°
Rotation: 360° (±180°)
Spare parts included
Power supply: 50 kV.
FEI/MICRION 9500是一种离子铣削设备，设计用于蚀刻、改变和去除薄层的低温沉积样品，用于各种研究和工业应用。该系统提供对离子轰击参数的精确控制，包括入射角、电流、间隙电压和压力。它专为小至10 nm或更大面积的轻柔蚀刻而设计，非常适合电子显微镜、材料表征和科学研究。FEI 9500利用电子束产生高能粒子轰击样品层材料，侵蚀掉表面。单元的控制台允许设置各种参数，包括能量、压力、间隙电压和入射角。通过调整参数,用户可以确定要处理的样品的表面积,以及可以蚀刻或更改的表面深度。机器产生的离子束可以通过电子方式调节到单位数的埃。它还能够提供从0.5mA到10mA的可变离子枪电流，最大冲击能量为0.9千电子伏特（KeV）。此外，离子束的撞击角可以由0°调节至80°，腔室内的压力由助推泵调节。MICRION 9500的真空室能够压低至1 x 10-6 Torr，允许最精确的蚀刻程序。此外,该工具还配备了超高真空视口,可确保完整的成像资产,并提供WDS/EDS样本分析以及手动成像控件。总体而言，9500是一种可靠、精确的样品离子蚀刻和钻孔模型。它提供了对轰击参数的无与伦比的控制和易于使用的控制台，确保任何表面的改变都是仔细和精确的执行。这种设备对于需要精确控制精细样品蚀刻的研究和其他科学工作非常宝贵。
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