二手 FEI / MICRION Vectra 986 #9145596 待售

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ID: 9145596
优质的: 2010
Particle beam system I-Gun type: 5nm Column Beam current: 3pA~931pA (50kV) Depo system: Tungsten Tmcts O2 H2O Cl2 / Br2 XeF2 Vacuum types: Turbomolecular pump (2) Mechanical pumps (2) Ion getter pumps Stage type: OBIC Laser Loadlock type: Loadlock system PS / OS: IBM RISC System / 6000 43P Model 150 computer / AIX 4.3.3 Detector: MCP 2010 vintage.
FEI/MICRION Vectra 986是一种广泛应用于显微镜中的离子铣削设备,用于稀释金属、半导体、陶瓷等样品。该系统由一个腔室、两个离子源、一个旋转进料器和一个精密级组成,提供了一个有效而优秀的底物蚀刻速率。它具有高效的源和控制溅射速率的能力,有助于最小化每个样品的时间和成本。FEI Vectra 986能够产生非常均匀的表面结构,从而产生优越的表面质量。它还提供了诸如背面铣削、涂层和原位清洁等工艺,以及其他选项,如嵌入式对比度增强,以增强图像细节和保真度。在离子铣削过程中,样品基板被高能离子轰击,一次剥离表面层一个原子。这一过程可以利用能量加速度的可调范围轻松控制,让用户精确调整潜在样品蚀刻的深度。这一过程对于基板蚀刻非常有效,因为它产生的平面边缘缓缓倾斜,允许去除大面积且失真最小,并允许样品表面固定角度的离子照明。MICRION Vectra 986由于其控制和缺陷检测软件,是一种高度可靠的设备。它利用各种算法和映射工具来检测内外缺陷以及特征特征。此外,由于该装置是为低压操作而设计的,因此能够进行极其精确的采样,这意味着该装置的工作不会造成电弧击穿或样品意外损坏的危险。Vectra 986是一款全方位的出色铣床,可提高材料去除率、高精度曲面和提高产品产量。凭借其众多的自动化控制和原位成像选项,它可用于研究、开发和制造部门的许多过程步骤。
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