二手 FEI / MICRION Vectra 986+ #9294478 待售

FEI/MICRION Vectra 986+是一种最先进的离子铣床，设计用于精密表面制备和薄膜沉积工艺。该设备能够产生超光滑、纳米级的表面特征，增加基板、掩模和晶片等物体的表面积覆盖。FEI Vectra 986+配备了多种功能，使其成为单层和多层薄膜应用的理想系统。设计了一种高效的离子束铣削头，将精确的束对准与"束倾斜"能力相结合，提供优化的离子束铣削结果。该单元可与众多离子束源结合使用，定义束轮廓的形状和结构。MICRION Vectra 986+配备了多种控制技术，包括软件引导倾斜度、溅射速率、溅射压力和光束角度调节，对基板上的离子束轨迹提供精确控制。Vectra 986+中的自动化系统使用户能够将处理器内存保存到本地硬盘驱动器,从而无需使用每种新设置重新配置计算机。该设备还提供自动基板卡带加载和分选功能，以加快基板的变化和提高生产线的吞吐量。FEI/MICRION Vectra 986+还包括一个可变压力工具，允许调节离子源、基板腔和资产的其他部分。此功能可确保对离子铣削过程的精确控制。此外，该模型还带有遥感模块，可提供遥控操作和监测功能。FEI Vectra 986+还包括一个负载锁室，允许用户在过程之间快速准确地准备基板。MICRION Vectra 986+的设计符合离子铣削的最高精度标准。设备的低噪声室意味着系统是无振动的，从而能够精确控制离子束。该单元还配备了一个微处理器，可连续监控基板的位置和温度，以确保最佳性能。总之，Vectra 986+配备了多种先进功能，包括自动卡带加载、可变压力机和遥感模块，使其成为精密表面制备和薄膜沉积工艺的领先机器。该刀具高效、精确的离子束铣削头结合倾斜和溅射压力调节，确保了最佳离子束轨迹和光洁度。