二手 FEI Vectra 200DE #293818006 待售
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ID: 293818006
优质的: 2000
Circuit Edit Focused Ion Beam
Single-beam system
Used for circuit editing
Gallium source
Ion column
(4) Gas Injection Systems (GIS)
Television (TV) Monitor
Oscilloscope
Keyboard
Mouse
Monitor
Control Personal Computer (PC)
Faulty ion beam ignition control board
Gases: Xenon Difluoride (XeF₂), Platinum (Pt), Iodine, Oxide deposition
2000 vintage.
FEI Vectra 200DE是一种尖端的离子铣削设备，在包括半导体加工、材料科学研究、故障分析等多种应用中为精确、均匀的材料去除而设计。这种先进的工具提供了无与伦比的性能和多功能性,使其成为寻求在工作中取得高质量成果的研究人员和工程师的首选。Vectra 200DE的核心是其离子束铣削技术，利用聚焦的离子束从样品表面去除材料。这一过程使用户能够以纳米级精度精确成型、抛光和稀薄样品，从而可以创建用于透射电子显微镜、SEM样品制备和其他高级应用的超薄截面。该系统配备了高亮度离子源，提供高电流密度的聚焦紧密的离子束，允许快速的材料去除率和高的处理速度。远光束电流还确保了在各种材料上的出色铣削性能,包括金属、陶瓷、聚合物和半导体,使FEI Vectra 200DE适合各种不同的应用。Vectra 200DE的主要功能之一是其高级成像功能,它允许用户精确控制铣削过程并实时监控进度。该单元配有一台高分辨率成像机,可提供样品表面的详细视图,允许用户可视化铣削进度,并根据需要调整参数以获得所需的结果。除了成像功能外,FEI Vectra 200DE还提供一系列高级自动化功能,可简化铣削过程并提高整体效率。该工具配备了直观的软件,使用户能够轻松编程铣削参数、设置铣削序列和远程监控进度,从而减少了手动干预的需要,并确保了一致的结果。Vectra 200DE还具有高度稳定的样品阶段,在铣削过程中保持精确定位,使用户能够在整个样品表面实现均匀的物料去除。这种稳定性对于获得高质量的结果至关重要,尤其是在处理需要仔细处理以避免损坏或失真的细腻或多层样品时。总体而言,FEI Vectra 200DE是一种最先进的离子铣削资产,可为各种应用程序提供无与伦比的性能、多功能性和精确度。其先进的离子束技术、成像能力和自动化功能使其成为从事半导体加工、材料科学和故障分析等领域工作的研究人员和工程师的重要工具,在这些领域,精确的材料去除对于获得高质量的结果至关重要。
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