二手 MICROBEAM Nanofab 150 #9172653 待售
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ID: 9172653
晶圆大小: 8"
Direct write ion beam lithography system, 8"
GDSII
Integrated laser position stage
Minimal beam spot size: 20nm
Energy: 4 -150 keV (300 keV double ionization)
ExB Mass filter
M/deltaM ≥ 50
Liquid metal ion sources: Ga, Si, Ge, In, Be, Au, As, B, Pd, Bi
Beam current density: Up to 5A/cm2
Computer controlled
Stepper motor driven substrate state: 165mm x 165mm travel
1 nm Resolution laser position monitor
Upgrade options available:
Advanced sub 10nm ion optics
Stainless steel system with 10 Pallet load-lock (6" wafer only)
8" wafer handling (2 pallet load-lock only)
General System Upgrade (GSU): Includes vacuum, computer, data handling software, interferometer
Ion sources: 5A/cm Ga, Si, Ge, In, Be, Au, As, B, Pd, Bi sources
Ion guns
Advanced Performance Gun (APG) and source.
MICROBEAM Nanofab 150是一款先进的离子铣削设备，设计用于以极高的精度处理极小和敏感的表面。该系统利用一个聚焦的离子束，它通过一个柱子发送原子级的研磨和材料的蚀刻到亚微米级。此过程是完全自动化的,这意味着在操作过程中需要最少的用户干预。该单元由三个主要元素组成：离子枪、气箱和加工室。离子枪由离子源、加速栅格和准直镜组成。离子源必须与正在加工的材料兼容，加速度栅格和准直镜结合产生准直的离子束；然后可以将该光束聚焦并精确地指向工作区域。气箱用于在加工室中产生受控环境；它容纳气源并提供一个放置材料的平面。最后，当梁与气箱平面上的材料相互作用时，加工室是进行铣削和蚀刻过程的地方。机器产生一个精细控制的离子束，能够逐层精确地瞄准工作材料。结果是对亚微米级进行了精确的蚀刻，可用于创建极其复杂的图样和结构。此外，这种操作可以自动化，并通过适当的编程，能够以极高的精度和速度生成复杂的模式。惰性气体的使用还可确保材料不会因工艺本身而受损。Nanofab 150是一款非常先进的设备，设计用于亚微米级精细材料的精密铣削和蚀刻。它为蚀刻和微加工应用提供了高度的精度和控制。该工具是完全自动化的,并通过适当的编程,可以节省时间并提高生产质量和吞吐量。
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