二手 NANO-MASTER NIE 4000 #9182949 待售
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ID: 9182949
优质的: 2016
Ion beam etching system, 14.5"
Physical etching with accelerating Ar ions
Patterned with thick resist for masking
Energetic ion flux during etching overheats:
Substrate
Resist
Substrate temperature: <50°C
SS Cube ion beam chamber
DC Ion gun: 12 cm, 1000 V, 500 mA
DC Motor driven: SS Shutters
Ion beam neutralizer
Ar MFC
Chilled water cooled: Substrate platen, 6"
Wafer rotation: 3-10 RPM
Vacuum stepper motor
Wafer tilt with stepper motor
Pumped rotational seal
Manual / Automatic wafer: Load / Unload
Typical etch rates:
Cu: 20 nm/min
Si: 50 nm/min
Etch uniformity: +/- 5% over 4" area
Turbo pump:
Base pressure with 500 1/sec:
5 x 10-6 Torr < 20 minutes < 2 x 10-7 Torr
Base pressure with 1000 1/sec: 8 x 10-8 Torr
Protect etched metal surfaces from oxidation
Recipe driven
Password protected
Safety interlocked
Missing part: Foreline pump
2016 vintage.
NANO-MASTER NIE 4000是一种离子铣削设备,旨在提供高精度数据和高表面通量。通过使用聚焦离子束（FIB），NIE 4000从各种底物中创造出纳米大小的结构和材料。该机具有高品质、紧凑的设计，包括两个可容纳各种样本量的集成腔室。NANO-MASTER NIE 4000系统由液氮冷却单元、计算机控制操作单元以及产生离子束并聚焦的腔室组成。机器的中心是离子源，其中生成FIB。这种高精度的离子束能够用多种材料，包括金属和薄膜基板制造超细纳米结构。全自动气体调节装置有助于通过清除样品中残留的污染物来提供最高质量的数据。NIE 4000允许精确控制离子束能量、束电流和焦点。这样可以精确地进行通用制造。凭借其专门的软件包，NANO-MASTER NIE 4000还可以用于成像、精密深度剖析和阵列绘制。此外,用户界面允许监视、自动化和用户控制。这使得自定义程序以满足用户的特定制造需求变得容易。NIE 4000的集成静电透镜提供了更大的工作距离，有助于减少离子穿透。此外,它的大型采样阶段允许在一次运行中处理更多的采样。其增强的计算机控制操作工具确保了纳米尺度的准确和一致的数据。NANO-MASTER NIE 4000是精密纳米材料制造的理想资产。其先进的FIB技术和高精度工程提供了卓越的性能和精度。NIE 4000允许更高的定制、精度和速度,使其成为寻求高级离子铣削解决方桉的用户的理想选择。
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