二手 PHILIPS / FEI Helios NanoLab 600 #9222516 待售
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已售出
ID: 9222516
优质的: 2010
Dualbeam Focused Ion Beam (FIB) system
Workstation:
Nano-prototyping
Nano-machining
Nano-analysis
Advanced TEM sample preparation
Electron optics:
Resolution: 0.9 nm @ 15 kV & 1.4 nm @ 1 kV
Detection: In-lens SE & BSE
Ion optics:
Sidewinder™ field emission focused ion beam optics
With liquid gallium ion emitter
Resolution: 5.0 nm @ 30 kV
Detection: CDEM Detector
Pattern: Imaging and patterning
With end-point detection through real-time monitor
AutoFIB
Platinum deposition
Selective carbon mill
Enhanced etch
TEM Sample preparation
AutoTEM G2
Micromanipulator: OMNIPROBE Autoprobe 200.2
Gas Injection system (GIS):
(2) Charged ports
Materials in charged ports: Platinum, Gold
Uncharged port
(5) Open ports for new sources
Tip life time:
EB 2-3 years
IB 3 months
Diagnostics:
EDS& EBSD
Pegasus package, EDAX
2010 vintage.
PHILIPS/FEI Helios NanoLab 600是一款最先进的离子铣削设备,旨在提供具有卓越精度和精确度的纳米级铣削和抛光。这项先进的技术是基于使用加速离子准确高效地溅射或蚀刻材料的概念。它是最新的纳米和微型规模加工应用的理想选择。FEI Helios NanoLab 600系统包括几个关键组件。IPD（Interactive Process Diagnostics）单元为熟练的操作员提供了有关初始离子源参数的信息，可用于确定切割速度、腔室压力和其他相关操作数据。该机还配备了场发射扫描电子显微镜（FE-SEM），允许对离子产生的小规模电路和结构进行成像。PHILIPS HELIOS NANOLAB 600具有独特的多极电磁群集源和固定式离子束源，在设计过程时允许高度的灵活性。它还具有一个低压操作室，它提供了一个大气环境，离子可以自由移动，而不会破坏被蚀刻或铣削材料的表面。这种工具采用最新的离子光学和离子操作技术设计，在切割和蚀刻材料时具有很高的精度和控制能力。NanoLab 600还具有广泛的安全功能。这包括个人屏蔽资产，减少模型运行期间对操作员的辐射量。该设备还具有交互式图形用户界面（GUI），允许操作员从远程终端或计算机控制过程。这样可以确保系统安全高效地运行。最后，HELIOS NANOLAB 600是一种先进的离子铣削装置，它提供了超高精度和精确度的纳米级铣削和抛光。它配备了广泛的安全特性，并具有独特的多极电磁群集源和固定的离子束源，在设计过程时允许高度的灵活性。这台机器是最新的纳米和微型机加工应用的理想选择。
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