二手 PHILIPS / FEI Helios NanoLab 600 #9229169 待售

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ID: 9229169
优质的: 2009
Dual beam Focused Ion Beam system (FIB) Without loadlock With regular stub sample holder Process: Xsection preparation / Imaging Pre-pump with chiller Missing parts / Accessories: High voltage power supply for e-beam defect 2009 vintage.
PHILIPS/FEI Helios NanoLab 600是为精密纳米加工应用而设计的双束离子铣削设备。它将聚焦离子束(FIB)和扫描电子显微镜(SEM)功能结合在一个提供高精度、高速和高成像分辨率的通用平台中。该系统有一个两枪FIB腔,用于在铣削操作中传递远光电流和溅射材料。其可调的高压栅极允许在铣削过程中进行光束控制。FIB室还包含一个能够达到低于1x10-6 Torr压力的真空单元。双梁机确保同一个区域可以在单程中进行铣削和成像,从而最大限度地减少了总循环时间。FEI Helios NanoLab 600的扫描电子显微镜(SEM)具有先进的成像功能,并通过可选的电子束成像包得到增强。此软件包增强了成像工具的功能,可实现卓越的成像分辨率、高灵敏度EDS元素分析和X射线衍射(XRD)。资产还包括用于样品处理和更换的自动化系统。自动取样平整平台根据铣削/蚀刻和成像的需要上下移动。实施了自动开盖模型,用于取出和更换样品支架。这些功能可实现不间断的自动示例处理。该设备具有高精度X和Y轴级,特征尺寸精度为1nm。该级由独立的数字伺服放大器驱动,使其适合亚微米应用。此外,它还配备了空气轴承系统,确保平稳、精确的样品操作.最后,PHILIPS HELIOS NANOLAB 600是一种先进的离子铣削设备,它提供了一个通用的双光束平台,用于高精度铣削和成像纳米结构。其自动化的样品处理机、高精度的x和y轴级,以及双枪FIB室都结合在一起,使其成为一种强大的纳米加工工具。
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