二手 PHILIPS / FEI Strata 200xp #293667899 待售
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ID: 293667899
Focused Ion Beam (FIB) system
Ga ion beam
Accelerating energy range: 5 to 30 keV
Beam current range: 1 pA - 11.5 nA
Gas Injection Systems (GIS): PT Deposition, selective carbon milling
Resolution in milling and patterning: < 50 nm.
PHILIPS/FEI Strata 200 xp是一种聚焦离子束（FIB）铣削设备,用于样品的纳米级操作。该系统提供卓越的曲面准备功能,以及精细曲面的阵列和加工。其精密的成像和分析系统可以精确控制样品参数和纳米级工艺。FEI Strata 200 xp在波聚焦离子束柱上利用的是一种移液态金属离子源。最多可应用3 keV光束电压，光斑尺寸为20至45 nm。其铣削速度高度可调节,范围从每脉冲0.5 nm到超过14,000 nm/s。单元的定义和深度控制是通过使用专有的速度调制模式来实现的。它还能够用透射电子显微镜在10 nm以下的分辨率下成像高达500 nm的电子束深度。PHILIPS Strata 200 xp能够对各种材料（如金属、有机材料、半导体和MEMS）进行阵列化、切片和加工。它提供了令人印象深刻的一系列工艺功能,例如等离子体蚀刻、表面修改和无掩码光刻。它还配备了对齐机、目标溅射、集成自动样品传递工具等功能。此外，该资产还包括一套复杂的成像和分析系统，使用户能够监测样品操作和纳米级工艺。这些系统提供了一种直观且易于使用的分析纳米级材料的方法。成像和分析系统包括扫描电子显微镜、原子力显微镜、电子反向散射衍射和纳米分辨率3D成像。Strata 200 xp是一种高度通用的成像和铣削模型,非常适合材料的纳米级操作。它提供卓越的分辨率、深度和速度控制,以及一系列分析功能。Strata 200 x具有先进的加工和成像功能,非常适合纳米级精密制造。
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