二手 PHILIPS / FEI Strata 400S #9191984 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

ID: 9191984
Focused ion beam system With omniprobe, GIS (Pt) Needs replacement: MPC NNL, Strata (PIA) & SPC Win XP (HDD PC Omniprobe & power supply PC main) Chiller SMC HRS012-A-20 SC-EXC nXDS10i dry vacuum pump Flowmeter, 2/25, water FLIP stage encoder F/G, LMI, GA69, CA, longlife; suppressor; extractor; aperture strip.
PHILIPS/FEI Strata 400S是一种先进的计算机控制离子铣削设备,用于硅和其他先进材料的精确切削或变薄。该系统能够有效地处理各种高价值材料,包括III-V、SiGe和低介电常数光致抗蚀剂。FEI地层400S单元能够保持5um的准确度,在整个样品中具有较高的均匀性。离子铣削涉及一个物理过程,其中气体离子轰击样品并以用户控制的精确速率"蚀刻"掉材料。在PHILIPS STRATA400S机中,样品被放置在与标准真空工具相连的样品支架上,从而使用户能够精确控制样品周围的大气。然后将样品支架放入专用腔室进行离子铣削。在密室内部,电子枪产生高能离子束,撞击样品。离子束由一系列螺线管水平扫描,在整个样品中提供更大的均匀性。FEI STRATA400S资产可以在一系列不同的模式下处理样品,包括固定光束切削、可变光束切削和连续剂量变薄。根据所需的效果,用户可以设置离子束电流、几何参数(如束大小、图桉形状和扫描速度)、气体参数(近似低速和温度)和可调压力。设置参数后,机器将开始离子铣削过程,在大多数材料中提供精确且均匀的减薄至10nm。直观的图形用户界面允许用户轻松地控制、修改和监控进程,只需单击几下即可。监视器显示进程状态,并提供进度的实时可视化,确保达到所需效果。与他一起,STRATA400S模型还能够表面抛光和平滑。它可以提供减少分子嵌入的有效介电蚀刻,导致电容降低,在高密度板上的信号行为得到改善。这种设备还具有很高的吞吐量,通常一次生产2000多个晶圆。PHILIPS Strata 400S系统是一种可靠、高效、精确的离子铣削设备,用于硅和其他先进材料的精确稀释。它提供了卓越的准确性和统一性,确保用户以最小的大惊小怪达到所期望的效果。
还没有评论