二手 PHILIPS / FEI Vion PFIB #293829450 待售
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FEI Vion PFIB（等离子体聚焦离子束）是一种用于蚀刻和成形样品的离子铣削系统，用于研究纳米技术和极紫外线（EUV）光刻。设计用于实验室和工业环境下的高精度样品制造。系统产生的离子束是由几个参数控制的直流（DC）束，如电势和气体电势，以及束电流。Vion PFIB配备了两个独立的离子束源--射频等离子体源和离子枪。RF等离子体源在以较高的电流蚀刻时使用，而离子枪则用于较低的电流导致更高解析度的成像。RF等离子体源在达到用户设置的相应参数时被激活。离子束的使用过程分两个阶段进行。第一阶段是样品材料的离子轰击，第二阶段是样品材料的后续蚀刻。离子束用来轰击样品表面，穿透材料，导致暴露区域溅射，材料蚀刻到一定深度。可以通过调整光束的能量、光束的通量和轰击持续时间来控制蚀刻速率。FEI Vion PFIB可用于多种应用，如纳米技术结构和纳米印刷品光刻。纳米技术结构可以用Vion PFIB进行高精度和高精度的建模和蚀刻。纳米印刷品光刻也可以用来介绍纳米尺度上的特征，使用样品表面已经存在的单态特征层。这样就可以在样品的预定位置引入纳米级特征。总体而言，FEI Vion PFIB是一种先进的离子铣削系统，用于纳米技术和极紫外光刻，能够产生极其精确的图像。它配备了两个必需的离子源，一个等离子源和一个离子枪，允许使用者在受控的环境中蚀刻或建模材料。Vion PFIB以其在纳米技术和极紫外光刻领域的各种应用，为业界创造纳米级结构和特征提供了可靠的工具。
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