二手 VEECO IBD #9229888 待售

VEECO IBD（离子束沉积）是一种高级沉积技术，用于表面修饰、生长薄膜结构、器件集成等应用。它是基于离子轰击的原理，引起所需材料的气相沉积。这种技术使用具有不同离子种类的离子束，以受控方式将涂层引导到基板表面。IBD设备包含一个离子束源、一个沉积室以及一组电子和电磁场来控制过程参数。真空室附着在离子束源上，使离子能够移动并沉积到基板上。该源通过一种称为电离的过程产生离子，一种获得正电荷的原子或分子。这些离子随后被加速到具有电场的预定能量。离子铣削系统需要在VEECO IBD沉积单元中包含一些额外的元件，以使其成为一个完整的机器。这些组件包括样品定位和板材电阻率监测系统。样品定位工具用于精确、精确地调节基板相对于沉积室的位置。这对于确保离子与目标的正确对齐非常重要。片状电阻率监测资产测量过程中目标材料的离子诱导电阻变化，用于控制和终止沉积。IBD模型通常用于在许多高级应用中使用的薄膜中沉积材料。这些薄膜的生长速率可以通过调节离子束电流和沉积温度来控制。该设备还可用于创建厚度均匀的薄层。VEECO IBD系统对于低温沉积、降低污染和降解薄膜的风险特别有用。除此之外，IBD单元还可以用来形成特殊的表面架构，如钝化层和其他保护层。它也可以用来结合特殊的功能元素，例如导电或介电元素。VEECO IBD机还用于细化晶体结构，用于生产高质量的介电和半导体薄膜。总体而言，IBD工具是先进材料沉积和设备集成的重要工具。它被用于各种研究和工业应用，允许更大程度地控制沉积过程和可靠的材料特性。