二手 CYMER ELS 5305 #9295002 待售

CYMER ELS 5305是CYMER, Inc.制造的准分子激光设备，用于半导体和元件制造。它用于两个关键工艺：光刻和湿蚀刻.激光系统经过优化,可提供高性能和高成本效率,同时满足新兴设备体系结构要求苛刻的流程要求。ELS 5305利用掺杂的陶瓷激光技术，发射不同波长的短脉冲紫外线（UV）光。利用高达10 Hz的脉冲重复率,以及高达170 mJ的脉冲能量,激光装置可以有效地产生产生高度精确的光掩模特征所需的曝光能量。此外，根据CYMER，其专有的激光脉冲技术使得激光不受环境温度和湿度的影响，从而确保了曝光结果的重复性。对于湿蚀刻工艺，激光机器能够产生低至0.35 μ m的蚀刻深度和大于1.5 μ m的蚀刻宽度。考虑到激光的脉冲持续时间短，即0.37微秒，湿蚀刻工艺可以提供更高的精度，特别是对于浅蚀刻深度。CYMER ELS 5305还配备了专有的高级视频显微镜和用于自动光刻工艺的焦控系统（V-MIC）。通过采用先进的位置感测、探测和制图技术,V-MIC确保在整个制图过程中保持焦点精度。为确保工具的长期可靠性,ELS 5305采用了闭环冷却设备,可帮助始终保持一致的80度工作温度。此外，还包括一个先进的空气净化模型，将空气中的颗粒降低到0.2微米以下。总体而言，CYMER ELS 5305是为精密半导体和元件制造而设计的先进激光设备。它具有直观的控制、先进的曝光/蚀刻技术、自动化的聚焦控制以及可靠的温度/颗粒控制功能,非常适合高端光刻和湿蚀刻应用。