二手 CYMER ELS 7600M #9240618 待售

製造商
CYMER
模型
ELS 7600M
ID: 9240618
优质的: 2006
KrF Laser Wave length: 248 nm Repetition rate: 4000 Hz Power linearity: < 3% Pulse duration: ≥15 ns Maximum output power: 30 W Beam divergence: Horizontal: 1.4 ± 0.05 mrad Vertical: 2.5 ± 0.08 mrad 2006 vintage.
CYMER ELS 7600M是一种先进的准分子激光设备,设计用于半导体晶片的高速制图。该平台通过其专有技术提供极其精确的激光束控制和阵列设计能力。激光系统提供了增强的甲板间距灵活性、优化的脉冲特性和先进的算法设置。ELS 7600M产生了一个非常精细的激光光束,能够创建高达0.15 μ m的音高模式。这种激光装置能够调谐低至5 μ s的脉冲持续时间,以获得最佳的图样精度。在5-200 mJ的功率输出范围内,它可以非常精确地执行各种高密度的微米级制图任务。CYMER ELS 7600M具有多种波长的激光器,从193-351 nm到根据每种沉积过程精心定制激光束特性,确保获得最佳效果。它提供了卓越的动态控制,可实现高达8 μ m的深度聚焦深度,并在最具挑战性的环境中实现卓越的长期运行稳定性。激光机的光学间距可调60至600毫米,以达到最大效率。激光头与一组三个垂直扫描门相连,通过控制激光点在目标上的位置来提供高精度和高效的扫描。ELS 7600M产生模式的速度比其竞争对手系统快八倍,脉冲度宏达每秒50000行,提供无与伦比的生产速度。激光工具还具有一个集成的光束视图摄像头,可实时监控扫描和输出输出的动态图像。直观的软件可帮助工程师准确、快速地设置激光资产,从而获得最高的精度。此外,专有的数据采集和控制软件支持远程监视和控制激光,以实现高级网络和监视功能。总体而言,CYMER ELS 7600M是一种先进的准分子激光器模型,设计用于半导体晶片的高速制图,精度和精确度都非常高。其令人印象深刻的一组特性,包括可调节的波长、动态脉冲控制和优化的光束阵列,使设备非常适合要求极高的应用。
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