二手 ABM ABM/8/500/NUV/DCCD/M #293797160 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 293797160
晶圆大小: 8"
优质的: 2011
Mask aligner, 8"
NUV / DUV Wavelength
Uniform beam size: 8"
Exposure light source for G-Line, H-Line, I-Line wavelength
Single / Split-field dual CCD Camera alignment system
Single / Split-field microscope alignment system
Double side exposure system
Square area:
< +3% over, 8"
< ±1% over, 4"
< +2% over, 6"
Printing resolution:
<0.5 Micron for vacuum / Hard contact (NUV Exposure)
<0.8 Micron for soft contact
<1 Micron for 50 Micron proximity gap
<2 Micron for 100 micron proximity gap
Alignment accuracy: ± 0.5 micron
500 W for Light source (NUV), 8":
365 nm Output intensity: 18-20 mW/cm²
400 nm Output intensity: 35-40 mW/cm²
436 nm Output intensity: 8-10 mW/cm²
2011 vintage.
ABM ABM/8/500/NUV/DCCD/M是为微电子学和半导体制造中的高精度光刻工艺而设计的高度先进的掩模对齐器。这款尖端设备结合了精确对准特性、先进的曝光能力和创新技术，以满足现代纳米技术应用的需求。ABM/8/500/NUV/DCCD/M面罩对齐器具有广泛的规格和卓越的性能，为在基板上以最高的精度和一致性产生复杂的图桉提供了一个全面的解决方桉。ABM/8/500/NUV/DCCD/M遮罩对齐器的主要特点是它具有8英寸的遮罩尺寸功能,允许用户使用更大的基板,并以更高的效率创建复杂的模式。这种扩展的容量对于吞吐量和产量是关键考虑因素的大批量生产环境特别有利。该系统还提供了500W的NUV（近紫外线）光源,能够在整个基板表面快速曝光具有高分辨率和出色均匀性的光敏材料。ABM/8/500/NUV/DCCD/M掩码对齐器的杰出特性之一是其先进的对齐单元,它采用了先进的DCCD（数字颜色补偿设备）技术。此专有功能通过补偿在对齐过程中可能出现的任何基于颜色的变化来提高对齐精度,从而确保在基板上精确覆盖遮罩图桉。DCCD技术有效地将对齐错误降至最低,并提高了产量率,使该机器成为需要卓越精度和可重复性的应用程序的理想选择。此外，ABM/8/500/NUV/DCCD/M面罩对准器还配备了集成显微镜工具，可实时监测和检查对准和曝光过程。高分辨率成像功能使操作员能够验证对齐质量、优化曝光设置以及及时排除任何问题,从而提高过程控制和生产效率。显微镜资产可以与掩码对齐器软件无缝集成,以增强自动化和数据分析,从而使用户能够简化工作流程,并以最少的人工干预实现一致的结果。ABM/8/500/NUV/DCCD/M面罩对齐器还具有一个用户友好的界面,具有直观的控件和可定制的设置,使新手用户和经验丰富的专业人员都可以访问该界面。该模型提供了一系列的曝光模式，包括接近、软接触和硬接触，以适应各种基材材料和加工要求。用户可以配置强度、持续时间和对准策略等曝光参数，以实现不同光刻应用的最佳效果，从图样传输到薄膜沉积。此外,ABM/8/500/NUV/DCCD/M掩模对齐器还设计了坚固的结构和可靠的组件,以确保长期性能和最小的停机时间。该设备采用了先进的安全功能，如联锁、报警和紧急停止机制，以保护操作员，防止操作过程中的潜在危险。此外,还可以使用标准程序轻松维护和校准掩模对准器,从而提高半导体制造设施的整体可靠性和成本效益。总体而言，ABM/8/500/NUV/DCCD/M遮罩对齐器代表了一种用于半导体工业中高精度光刻应用的最先进的解决方桉。凭借其先进的功能、多用途的功能和用户友好的设计,该系统提供了无与伦比的性能和效率,能够以卓越的精度和可重复性在基板上生成复杂的图案。无论是研发还是大批量生产，ABM/8/500/NUV/DCCD/M面膜对齐器都是一个宝贵的工具，它使用户能够取得优异的成果，推动微电子和纳米技术的创新。
还没有评论