二手 ABM Custom #9111321 待售
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ID: 9111321
晶圆大小: 8"
Mask aligner, 8"
Zeiss high resolution mask alignment microscope
500 Watt UV power supply
Top and backside alignment
Table-top configuration
Adjustable vacuum contact
Precision alignment module for piece parts up to 8" Square, .005" to .3" Thick
Top (2" to 10") and Bottom (2" to 8") vacuum mask holders
Fixed level or Wedge compensation vacuum chucks
Uniform / Collimated exposure beams, Near UV, Mid UV, Deep UV
2-Channel 200 To 2,000 Watt intensity controlling power supplies
Splitfield CCD/TV alignment systems / microscopes
Single Field Zoom & High Magnification Microscopes
Standard support and vibration isolation tables.
ABM Custom是为半导体器件制造应用而设计的极其精确的掩码对齐器。它配备了一套先进的光学和成像组件,能够精确定位口罩,以制造最具挑战性的图层设计。此工具专为定制掩码布局需求而设计,如Ultra-Thin Hard Mask和Polyimide应用程序,以及高级Flip Chip和Fan Out应用程序。ABM Custom具有3轴定位设备,具有极高的精度和可重复性。此定位系统可确保掩模精确定位到晶圆表面。它还配备了一个自动视觉对准单元，以补偿遮罩位置的任何扭曲或错位。即使在处理具有挑战性的几何形状时,该机器也能够快速、准确且可重复地对准晶片表面。Custom还利用专门的图像处理算法来实现图像对齐的高分辨率和吞吐量。它使用复杂的图像分析算法来校正任何外围失真,从而使晶圆上的掩码保持一致对齐。此外,ABM Custom允许复杂的曝光参数优化,包括调整螺距、偏移和自动曝光级别。该工具还包括用于微调曝光设置优化的自动校正算法。这样可以确保无论图层设计的复杂性如何,掩码都能准确一致地对齐。Custom是针对ABM Custom掩码布局需求而设计的精确可靠的掩码对齐器。它的高精度和可重复性为各种层制造应用提供了出色的解决方桉,从Ultra-Thin Hard Mask和Polyimide应用到先进的Flip Chip和Fan Out应用。它的图像处理算法和集成的优化参数使掩码能够可靠对齐，从而产生了一个高效和经济高效的掩码对齐器。
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